炭素資源の活用を目指した複合触媒系炭素-炭素結合生成反応の開発
| Project/Area Number | 04F04395 |
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 外国 |
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| Research Field |
Synthetic chemistry
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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| Host Researcher |
中村 栄一 東京大学, 大学院・理学系研究科, 教授
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| Foreign Research Fellow |
HAJRA Alakananda 東京大学, 大学院理学系研究科, 外国人特別研究員
HAJRA A.
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| Project Period (FY) |
2004 – 2006
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| Project Status |
Completed(Fiscal Year 2005)
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| Budget Amount *help |
¥1,400,000 (Direct Cost : ¥1,400,000)
Fiscal Year 2005 : ¥1,200,000 (Direct Cost : ¥1,200,000)
Fiscal Year 2004 : ¥200,000 (Direct Cost : ¥200,000)
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| Keywords | 触媒的炭素-炭素結合生成反応 / 不飽和炭素水素 / インジウム / 亜鉛 / 不斉触媒 / アルキン / アルケン / カルボニル化合物 / 不飽和炭化水素 |
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| Research Abstract |
本研究では多金属中心型の分子触媒のデザインと創製を通じて,高選択的な炭素-炭素結合生成反応の開発を行っている.
昨年度は,単一触媒系での活性メチレン化合物の単純アルキン類への付加反応の検討と,その生成物であるαビニルβケトエステルの化学変換反応を検討した.辻等によって報告されたパラジウム触媒を用いる脱炭酸反応によってα位にアルケニル基とアリル基を持つ4級炭素を有する化合物へと触媒的に変換できることを見出した.さらにこの脱炭酸-アリル化反応系に種々の光学活性ホスフィン配位子を添加する検討を行なったところ.Trostらの開発したビスホスフィン配位子やPfaltzらの開発したホスフィンーオキサゾリン配位子を用いた時に,30%程度とこれまでのところ低選択性ではあるが,不斉有機現象が起ることを見出した.この発見に基づき,α位の置換機としてフッ素を導入した基質を用いた場合,同様な反応条件下で90%eeを超える高いエナンチオ選択性が発現し,光学活性αフルオロケトンが高収率,高光学純度で得られる.本成果は昨年末にAngew. Chem誌に"Very Important Paper"として掲載された.本年度は,多金属中心反応系での,不斉炭素.-炭素結合生成反応に対して,合理的にデザインされた「軟らかい」ルイス塩基性配位子と「硬い」ルイス塩基性配位子を有する不斉配位子を設計・合成し,この新規配位子を利用した不斉1,4付加反応などの検討を鋭意行っている.
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Report
(2results)
Research Products
(1results)
