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シングルエレクトロン・トランジスタの開発

研究課題

研究課題/領域番号 05555085
研究種目

試験研究(B)

配分区分補助金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関東北大学

研究代表者

坪内 和夫  東北大学, 電気通信研究所, 教授 (30006283)

研究分担者 益 一哉  東北大学, 電気通信研究所, 助教授 (20157192)
研究期間 (年度) 1993 – 1995
研究課題ステータス 完了 (1995年度)
配分額 *注記
18,700千円 (直接経費: 18,700千円)
1995年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1994年度: 6,500千円 (直接経費: 6,500千円)
1993年度: 9,200千円 (直接経費: 9,200千円)
キーワードクーロンブロケード / トンネル接合 / シングルエレクトロン・トランジスタ / 選択成長 / Al / Al-CVD / シングルエレクトロントランジスタ / Al CVD
研究概要

トンネル絶縁膜を介して形成された極微小容量におけるSingle Electron Tunneling現象は究極の「1電子スイッチ」への可能性を秘めている。従来、この現象は30K〜mKの極低温で観測されていたが、平面寸法10nmオーダーの極微小容量を再現良く形成できるならば、室温動作シングルエレクトロン・トランジスタの実現が可能である。本研究では、デジタル演算素子を目指したシングルエレクトロン・トランジスタを開発する。具体的には、申請者らが極微細加工技術として開発してきた「アトミックレジストプロセス」、「単結晶Al選択成長技術」を基礎として、(1)寄生容量を極力低減した300K〜77Kで動作するシングルエレクトロン・ボックス及びトランジスタ、(2)デジタル倫理回路の構成要素であるインバータ回路を開発する。
研究計画に沿って研究は進展し、最終年度においては、インバータ回路形式について検討を行った。シングルエレクトロン・ボックスを縦続接続した従来形のシングルエレクトロン・トランジスタは十分な増幅率を持たないので、抵抗負荷形や容量負荷形インバータでは、デジタル倫理回路用インバータとして充分な「レベル回復機能と増幅率」の確保が困難である。デジタル倫理回路動作に必要不可欠な「レベル回復機能と増幅率」を持った回路形式として、新しく回路的にフィードバック(帰還)のかかるフリップフロップ形のインバータ回路構成を提案した。この新しい帰還形インバータ回路の動作について計算機によるモンテカルロシミュレーションを用いて検討した結果、従来形インバータに比較し安定な動作を確認した。
以上最終年度において、シングルエレクトロン倫理回路を実現するための基本的なプロセス、デバイス、回路技術を確立した。

報告書

(4件)
  • 1995 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1994 実績報告書
  • 1993 実績報告書
  • 研究成果

    (78件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (78件)

  • [文献書誌] K. Tsubouchi: "Selective Al CVD Technology for ULSI (Invited Paper)" The 2nd Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and. (1995)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Masu: "Stable Operation of Single Electron Logic Circuits with Feed-Back Loop" Ext. Abst. the 1995 Int. Conf. on Sold State Devices and Materials, Osaka. 1079-1080 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H. Matsuhashi: "Mirror-Like Surface Morphology of CVD-Al on TiN by ClF_3 Pretreatment" Advanced Metallization for ULSI Applications in 1995, Tokyo. (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Masu: "Multilevel Metallization Based on Al CVD" 1996 Symposium on VLSI Technology, Hawaii, U. S. A.(To be presented). (1996)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 坪内 和夫: "選択Al CVD法によるSi基盤上へのナノ構造形成" 表面化学. 16(10). 644-650 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(II)" 1995年秋季第56回応用物理学会学術講演会(1995年8月). 26p-ZQ-12 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 後藤 晶央: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(III)" 1995年秋季第56回応用物理学会学術講演会(1995年8月). 26p-ZQ-13 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 後藤 晶央: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(IV)" 1996年春季第43回応用物理学関係連合講演会(1996年3月). (講演予定). (1996)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "ClF_3クリーニング後のTiN表面に堆積したCVD Al膜の抵抗率" 1996年春季第43回応用物理学関係連合講演会(1996年3月). (講演予定). (1996)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Area-Selective CVD of Metals" Thin Solid Films (Invited paper). 228. 213-318 (1993)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Contribution of Free Electrons to Al CVD on a Si Surface by Photo-Excitation" Appl. Surface Science. 79/78. 237-243 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Atomic Hydrogen Resist Process with Electron Beam Lithography for Selective Al Patterning" J.Vac. Sci. & Tech.(Invited paper). B12 (6). 3270-3274 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Precursor Design and Selective Aluminium CVD" Vacuum, (Invited paper). 46,11. 1249-1253 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Effects of Hydrogen Terminated Substrate Surface on Succeeding Selective Deposition" Material Research Society Symposium Proceedings. Vol.315. 59-70 (1993)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Metal CVD Technology" Proceedings of the 3rd IUMRS International Conference on Advance Materials (Tokyo, 1993) ; Trans. Mat Res. Soc. Jpn. 14B. 1327-1332 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Cotribution of Free Electron to Al CVD on Si Surface by Photo-Excitation" First International Conference on Photo-Excited Process and Applications, Sendai. O-10. 99 (1993)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Schottky Barrier Height of Single Crystal CVD-Al/Si Contact" Proceedings of Advanced Metallization for ULSI Applications in 1993. 301-307 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Area-Selective Al CVD Technology" Proc.of Int. cont. on Advanced Microelectronic Devices and Processing, Sendai, (Invited Paper). 77-84 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al.: "Single Crestal CVD-Al/Si Schottky Contact" Proc.of Int. cont. on Advanced Microelectronic Devices and Processing, Sendai. 495-500 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Atomic Hydrogen Resist Process with Electron Beam Lithography for Selective Al Patterning" The 38th International Symphosium on Electron, Ion and Photon Beams (EIPB '94), New Orleans, (Invited Paper). C2 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Precursor Design and Selective Aluminum CVD" 4th European Vacuum Conference and lst Swedish Vacuum Meeting, Uppsala, (Invited Paper). Orals-34 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Selective Al CVD Technology for ULSI Application" Advanced Metallization for ULSI Applocations in 1994, Austin (Invited Paper). Session 9-1. (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Selective Al CVD Technology for ULSI Application: "Advanced Metallization for ULSI Applications in 1994, Austin (Invited Paper)" Session9-1 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Stable Operation of Single Electron Logic Circuits with Feed-Back Loop" Extended Abstracts of the 1995 International Conference on Solid State Devices and Materials. August 21-24, Osaka. 1079-1080 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "Mirror-Like Surface Morphology of CVD-Al on TiN by CIF_3 Pretreatment" Advanced Materiallization for ULSI Applications in 1995, Tokyo. (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Masu, et al: "Multilevel Metallization Based on Al CDV" 1996 Symposium on VLSI Technology, Hawaii, June 11-13. (To be presented).

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Selective Al CVD for ULSI Interconnection" IEICE Technical Reprt. SDM94-80. (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "CIF_3 Pre-Cleaning in Selective Al-CVD" IEICE Technical Reprt. SDM95-98. (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Process Technology for Single Electron Devices" Extended Abstracts (The 54th Autumn Meeting, 1993) ; The Japan Society of Applied Physics. 28p-HB-7.

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "Contribution of Surface Free Electron to Selective Al-CVD" Extended Abstracts (The 54th Autumn Meeting, 1993) ; The Japan Society of Applied Physics. 29a-ZE-8.

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "Single Crystal Al/Si Shottky Barrier Height Using Selective Al-CVD with DMAH" Extended Abstracts (The 41st Spring Meeting, 1994) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 30p-ZH-9.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "Improvement of Morphology of CVD-Al Film" Extended Abstracts (The 55th Autumn Meeting, 1994) ; The Japan Society of Applied Physics. 21a-ZD-7.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] J.-H.Chung, et al: "Blanket Al CVD using insitu CIF_3 Pre-Cleaning" Extended Abstracts (The 42nd Spring Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 29p-K-10.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "CIF_3 Pre-Cleaning in Selective Al-CVD" Extended Abstracts (The 42nd Spring Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 29p-K-9.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "CIF_3 Pre-Cleaning in Selective Al-CVD(II)" Extended Abstracts (The 56th Autumn Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics. 26p-ZQ-12.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] A.Gotoh, et al: "CIF_3 Pre-Cleaning in Selective Al-CVD(III)" Extended Abstracts (The 56th Autumn Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics. 26p-ZQ-13.

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] A.Gotoh, et al: "CIF_3 Pre-Cleaning in Selective Al-CVD(IV)" Extended Abstracts (The 43rd Spring Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 27a-Q-8.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Matsuhashi, et al: "Resistivity of CVD Al on TiN Pretreated with CIF_3" Extended Abstracts (The 43rd Spring Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 27a-K-9.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Surface Terminated Hydrogen and Its Application to Al CVD" Extended Abstracts (The 43rd Spring Meeting, 1995) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 27p-H-7.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Selective Chemical-Vapor-Deposition of Aluminum Thin Film" Oyo Buturi. 62 (11). 1225-1229 (1993)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Fabrication of Nanometer-Structure Using Selective Al-CVD" Kotai Buturi. 29 (7). 13-19 (1994)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tsubouchi, et al: "Fabrication of Nanometer-Structure on Silicon Subatrate Using Selective Al-CVD" Hyoumenkagaku. 16 (10). 644-650 (1995)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Tsubouchi: "Selective Al CVD Technology for ULSI(Invited Paper)" The 2nd Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing, Kyongju, Korea. (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K. Masu: "Stable Operation of Single Electron Logic Circuits with Feed-Back Loop" Ext. Abst. the 1995 Int. Conf. on Sold State Devices and Materials, Osaka. 1079-1080 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H. Matsuhashi: "Mirror-Like Surface Morphology of CVD-Al on TiN by ClF_3 Pretreatment" Advanced Metallization for ULSI Applications in 1995, Tokyo. (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K. Masu: "Multilevel Metallization Based on Al CVD" 1996 Symposium on VLSI Technology, Hawaii, U. S. A.(To be presented). (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 坪内 和夫: "選択Al CVD法によるSi基板上へのナノ構造形成" 表面化学. 16(10). 644-650 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(II)" 1995年秋季 第56回応用物理学会学術講演会(1995年8月). 26p-ZQ-12 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 後藤 晶央: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(III)" 1995年秋季 第56回応用物理学会学術講演会(1995年8月). 26p-ZQ-13 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 後藤 晶央: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスClF_3表面クリーニング(IV)" 1996年春季 第43回応用物理学関係連合講演会(1996年3月). (講演予定). (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "ClF_3クリーニング後のTiN表面に堆積したCVD Al膜の抵抗率" 1996年春季 第43回応用物理学関係連合講演会(1996年3月). (講演予定). (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Contribution of Electrons to Al CVD on A Si Surface by Photo-Excitation" Applied Surface Science. 79/80. 237-243 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Metal CVD Technology" Transactions on Material Research society Japan. 14B. 1327-1332 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Precursor Design and Selective Aluminum CVD(lnvited Paper)" The 4th European Vauum Conference and 1st Swedish Vacuum Meeting.Uppsala,Swedon. Orals-34 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Atomic Hydrogen Resist Process with Electron beam Lithography for selective Al Pattering(lnvited Paper)" The 38th International Symposium on Electron,Ion and Photon Beams(EIPB′94),New Orleans,U.S.A. C2 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Selective Al CVD Technology for ULSI Application(Invited Paper)" Advanced Metallization for ULSI Applications in 1994,Austin,U.S.A. Session 9 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Atomic Hydrogen Resist Process with Electron Beam Lithography for Selective Al Patterning" Journal of Vacuum Science & Technology. B12. 3270-3274 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Selective Al CVD Technology for ULSI(Invited Paper)" The 2nd Pacific Rim Interational Conference on Advanced Materials and Processing,Kyongju,Korea. To be presented. (1995)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 坪内 和夫: "選択AlCVD技術によるナノ構造形成" 個体物理. 29. 13-19 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "DMAHを用いたCVD-Al膜の表面モルフォロジーの改善" 1994年秋季 第55回応用物理学会学術講演会(1994年9月). 21a-ZD-7 (1994)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 松橋 秀樹: "選択Al-CVD技術におけるプラズマレスCIF_3表面クリーニング" 1995年春季 第42回応用物理学関係連合講演会(1995年3月). 講演予定. (1995)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 鄭 周赫: "in-situ CIF_3前処理によるブランケットAlCVD" 1995年春季 第42回応用物理学関係連合講演会(1995年3月). 講演予定. (1995)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Area-Selective CVD of Metals(Invited Paper)" Thin Solid Films. 228. 312-318 (1993)

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      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Contribution of Free Electron to Al CVD on Si Surface by Photo-Excitation" Appl.Surface Science. (to be published). (1994)

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      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Effects of Hydrogen Terminated Substrate Surface on Succeeding Selective Deposition(Invited Paper)" Material Research Society Symposium Proceedings,“Surface Chemical Cleaning and Passivation for Semiconductor Processing". 315. 59-70 (1993)

    • 関連する報告書
      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Metal CVD Technology(Invited Paper)" The 3rd IUMRS International Conference on Advanced Materials. S3-1 (1993)

    • 関連する報告書
      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Contribution of Free Electron to Al CVD on Si Surface by Photo-Excitation" First international Conference on Photo-Excited Processes and Applications,Sendai. 99 (1993)

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      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Masu: "Schottky Barrier Height of Single Crystal CVD-Al/Si Contact" Advanced Metallization for ULSI Applications,Japan Conference,Tokyo. 27-28 (1993)

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      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Area Selective Al CVD Technology(Invited Paper)" Proceedings of International Conference on Advanced Microelectronic Devices and Processing,Sendai. 77-84 (1994)

    • 関連する報告書
      1993 実績報告書
  • [文献書誌] H.Matsuhashi: "Single Crystal CVD-Al/Si Schottky Contact" Proceedings of International Conference on Advanced Microelectronic Devices and Processing,Sendai. 495-500 (1994)

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      1993 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsubouchi: "Precursor Design and Selective Aluminum CVD(Invited Paper)" 4th European Vacuum Conference and 1st Swedish Vacuum Meeting,Uppsala,Sweden. (to be presented). (1994)

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  • [文献書誌] K.Masu: "Atomic Hydrogen Resist Process with Electron Beam Lithography for Selective Al Patterning(Invited Paper)" The 38th International Symposium on Electron,Ion and Photon Beams(EIPB'94)New Orleans. (to be presented). (1994)

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  • [文献書誌] 坪内和夫: "選択Al CVD技術" 平成5年 電気学会 電子・情報・システム部門大会 シンポジウム(半導体プロセスの高性能化技術)(1993年7月16日). 133-136 (1993)

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  • [文献書誌] 坪内和夫: "選択Al・CVD技術" 磁性材料研究会・電子材料表面処理技術部会 合同例会資料(1993年7月16日、17日). (1993)

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  • [文献書誌] 坪内和夫: "水素終端Si表面のAl選択成長" 日本学術振興会 極限構造電子物性第151委員会、(1993年12月13,14日). 28-35 (1993)

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  • [文献書誌] 坪内和夫: "シングルエレクトロンデバイスのためのプロセス技術" 1993年秋季 第54回応用物理学会学術講演会(1993年9月). 28p-HB-7 (1993)

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  • [文献書誌] 松橋秀樹: "選択Al-CVDにおける表面自由電子の寄与" 1993年秋季 第54回応用物理学会学術講演会(1993年9月). 29a-ZE-8 (1993)

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  • [文献書誌] 松橋秀樹: "DMAHを用いた選択Al-CVDによる単結晶AlとSi界面のショットキー障壁高さ" 1994年春季 第41回応用物理学関連連合講演会(1994年3月). (講演予定). (1994)

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公開日: 1993-04-01   更新日: 2016-04-21  

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