| 研究課題/領域番号 |
07650820
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
構造・機能材料
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
原 一広 九州大学, 工学部, 助教授 (00180993)
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| 研究分担者 |
日高 芳樹 九州大学, 工学部, 助手 (70274511)
岡部 弘高 九州大学, 工学部, 助手 (90221142)
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| 研究期間 (年度) |
1995 – 1996
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| 研究課題ステータス |
完了 (1996年度)
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| 配分額 *注記 |
2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
1996年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1995年度: 1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
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| キーワード | フォトクロミズム増感 / 水溶性高分子 / PEG / PVA / セルロース / ゲルの乾燥 / 分域構造 / 原子間力顕微鏡(AFM) / インピーダンス / タングステン酸 / 着色反応 / Randlesの等価回路 / 高分子 / 水素イオン |
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| 研究概要 |
a.これまで我々の研究により明らかとなっていたPEGのみならず、PVA、セルロース等の他の高分子においても、フォトクロミズムの増感作用が見られる事が明らかとなった。また、高分子の添加により、着色濃度が増加する事の他に、他の成膜法により作成した酸化タングステン膜に無い可撓性のある膜を作成する事に成功した。
b.従来、一見O-H基がフォトクロミズムを促進する原因である様に思われたが、本研究の後半において新たに見出された、1.フォトクロミズムが添加PEGの分子量に依存しない。2.O-H基を持つにも拘らずフォトクロミズムを促進しないもが存在する。という事実よりフォトクロミズム増感にはO-H基のみではなく、より普遍的により多くの物質存在する基によるフォトクロミズム増感機構が存在する事が、実験的のみならず、電気陰性度を基にした考察から示唆される事も明らかとなった。
c.基材としての利用が考えられるいくつかのゲルの乾燥過程についての実験を行い、乾燥過程の様相は、ゲル中の溶媒とネットワークとの相互作用の変化によって大きな影響を受ける事を明らかにした。また、この乾燥試料が極めてガラス状態と近いものである事も様々の実験事実より明らかにした。この方法をさらに拡張して行く事により、完全に非加熱方式による高分子ガラス作成法が確立されれば、これまで熱分解しやすかった為に実現されなかった様々の新規な物性を持った物質が誕生する事が期待される。
d.素子製作の際の基板材料として期待される幾つかの結晶材料の表面構造評価について、分域構造を原子間力顕微鏡(AFM)用いる事により評価可能である事を明らかにした。特に、TGSにおける強誘電性分域の特徴であるレンズ型構造を、この直接的な方式を用いて初めて観測する事に成功した。
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