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UV励起/光電子放出による半導体粒子の減圧場における帯電

研究課題

研究課題/領域番号 09650849
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 反応・分離工学
研究機関大阪府立大学

研究代表者

足立 元明  大阪府立大学, 先端科学研究所, 講師 (40100177)

研究分担者 奥山 喜久夫  広島大学, 工学部, 教授 (00101197)
研究期間 (年度) 1997 – 1999
研究課題ステータス 完了 (1999年度)
配分額 *注記
3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
1999年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
1998年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
1997年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
キーワード半導体 / ナノメータ粒子 / 真空プロセス / UV励起 / 光電子放出 / 帯電 / 微粒子捕集
研究概要

本研究の目的は、「光電子放出帯電による半導体製造真空プロセスにおける微粒子除去技術」の実用化に必要な基礎データの集積にある。2つのタイプの「UV/光電子放出による微粒子帯電装置」を試作した。一つは光電子放出材にUVを照射し、放出された光電子により粒子を荷電する方法(光電子放出-拡散荷電装置)、もう一つはUV照射により粒子から光電子を放出させて帯電させる方法(直接光電子放出装置)である。それぞれの荷電装置について、減圧場における粒子帯電の数値シミュレーションと実験による評価を行った。「光電子放出-拡散荷電装置」のSiO_2粒子を用いた実験では、粒子は負に帯電し、UV強度、粒径の増加に対し、帯電量は僅かに増加した。また、本装置では、圧力が減少するにしたがい、帯電量が減少した。これら実験結果は数値解析結果と定量的に良く一致した。「直接光電子放出装置」では、粒子は正に帯電し、帯電量はUV強度と粒径の増加、圧力の減少により増加した。しかし、流量には影響されなかった。本装置の数値シミュレーションは、実験の定性的な傾向を説明できたが、定量的な一致は得られなかた。実験とシミュレーションの不一致の原因として、実際の粒子からの光電子放出量がシミュレーションで用いた値より小さい、あるいは、臨界ノズル(減圧容器への粒子の導入口)における粒子沈着がシミュレーションの値より大きいことが考えられる。SiO_2粒子の他にZnO粒子とCdS粒子についても帯電実験を行った。ZnOとCdS薄膜を用いた予備実験では、UV照射による光電子放出が確認された。ZnO粒子の実験結果は、UV強度、粒径、圧力の変化に対しSiO_2粒子と同様の結果を与えた。CdS粒子は、粒径が1場では、帯電量はUV強度および粒径の増加により増えた。

報告書

(4件)
  • 1999 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1998 実績報告書
  • 1997 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (19件)

  • [文献書誌] 足立元明、藤本敏行、中曽浩一、金泰吾、奥山喜久夫: "ソースガスのイオンかによるCVD成膜装置内における粒子発生の抑制"化学工学論文集. 25. 878-883 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M. Adachi, T. Fujimoto, K. Nakaso, K. Okuyama, F. G. Shi, H. Sato et al.: "Film Foramton by Motion Control of lonization Precursores in Electric Field"Appl. Phys. Letters. 75. 1973-1975 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M. Adachi, T. Fujimoto, K. Okuyama: "Motion Control of lonized Intermediates in TEOS/O_3-APCVD Reactor"Proc. 1st Asia Aerosol Conf.. 219-220 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M. Shimada, K. Okuyama, Y. Inoue, M. Adachi and T. Fujii: "Removal of Airborne Particles by a Device Using U/Photoelectron Method under Reduced Presure Conditions"J. Aerosol Sci.. 30. 341-353 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 足立元明、須藤収、高橋武士: "減圧場におけるナノサイズ粒子の帯電量測定"エアロゾル研究. 13. 94-102 (1998)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M. Shimada, S. J. Cho, K. Okuyama, T. Tamura, M. Adachi and T. Fujii: "Removal of Airborn Particles by a Tublar Particle-Removal Device Using UV/Photoelectron Method"J. of Aerosol Sci.. 28. 649-661 (1997)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 足立元明、奥山喜久夫: "新版 シリコンウェーハ表面の超クリーン化技術"服部毅編 リアライズ社. 520 (2000)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Adachi, T.Fujimoto, K.Nakaso, T.Kim and K.Okuyama: "Control of Particle Generation in CVD Reactor by Ionization of Source Vapor."Kagaku Kogaku Ronbunshu. 25-6 (in Japanese). 878-883 (1999)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Adachi, T.Fujimoto, K.Nakaso, K.Okuyama, F.G.Shi, H.Sato et al.: "Film Formation by Motion Control of Ionization Precursors in Electric Field"Appl Phys. Letters. 78-13. 1973-1975 (1999)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Adachi, T.Fujimoto, K.Okuyama: "Motion Control of Ionized Intermediates in TEOS/OィイD23-ィエD2 APCVD Reactor"Proc.1st Asia Aerosol Conf.. 219-220 (1999)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Shimada, K.Okuyama, Y.Inoue, M.Adachi and T.Fujii: "Removal of Airborne Particles by a Device Using UV/Photoelectron Method under Reduced Pressure Conditions"J. Aerosol Sci.. 30-3. 341-353 (1999)

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    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Adachi, O.Sudo, T.Takahashi: "Charge Measurement of Nanometer-Sized Particles at Low Pressure"J. of Aerosol Research, Jpn.. 13-2 (in Japanese). 94-102 (1998)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Shimada, S.J.Cho, K.Okuyama, T.Tamura, M.Adachi and T.Fujii: "Removal of Airborn Particles by a Tubular Particle-Removal Device Using UV/Photoelectron Method"J. of Aerosol Sci.. 28-4. 649-661 (1997)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Adachi and K.Okuyama: "Ultraclean Technology of Silicon Wafers"T,Hattori Ed.REALIZE Inc.. (in press). (2000)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Shimada, K.Okuyama, Y.Inoue, M.Adachi and T.Fujii: "Removal of Airborne Particles by a Device Using UV/Photoelectron Method under Reduced Pressure Conditions"J. Aerosol Sci.. 30(3). 341-353 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] 足立元明、奥山喜久夫: "新版 シリコンウェーハ表面の超クリーン化技術"服部毅編 リアライズ社. 526 (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] M.Shimada, K.Okuyama, Y.Inoue, M.Adachi and T.Fujii: "Removal of Airborne Prticles by a Device Using UV/Photoelectron Method under Reduced Pressure Conditions" J.Aerosol Sci.30・3. 341-353 (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 足立元明、 須藤收、 高橋武士: "減圧場におけるナノサイズ粒子の帯電量測定" エア ロゾル研究. 13・2. 94-102 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] M.Shimada, K.Okuyama, M.Adachi and T.Fujii: "Aerosol particle removal at reduced pressure by an electrical precipitator using UV/photoelectron method." Proc.of the 1998 International Aerosol Conference, J.Aerosol Sci.29・S1. S1237-S1238 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書

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公開日: 1997-04-01   更新日: 2016-04-21  

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