研究課題
基盤研究(C)
本研究では,Si前駆体にtriethoxysilane (TRIES),vinyltrimethoxysilane (VTMS)を用いて,ゾル-ゲル法によりSi-O-Si結合を有するシリカネットワークを形成させ,熱架橋によりヒドロシリル化することでSiOC構造を形成し,気体分離膜への応用について検討した。ゾル調製時の前駆体比がSiOC膜のネットワークサイズおよび耐酸化性に及ぼす影響について評価した結果,前駆体比によりネットワークサイズの制御が可能で,従来のオルガノシリカ膜と比較して高い耐熱性,耐酸化性を有することが明らかになった。
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すべて 雑誌論文 (12件) (うち査読あり 12件、 オープンアクセス 5件) 学会発表 (13件) (うち国際学会 5件、 招待講演 3件) 図書 (1件)
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