研究課題/領域番号 |
15K11105
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
保存治療系歯学
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研究機関 | 東京医科歯科大学 |
研究代表者 |
二階堂 徹 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 講師 (00251538)
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研究分担者 |
井上 剛 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 助教 (40431928)
高垣 智博 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 助教 (60516300)
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研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2017年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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キーワード | エナメル質 / ABRZ / 接着 / セルフエッチング接着システム / リン酸エッチング / 電子顕微鏡 / 接着試験 / セルフエッチングシステム / 歯質接着 / エナメル質ABRZ / 機能性モノマー / 化学結合 / フッ素徐放 |
研究成果の概要 |
セルフエッチングシステムは、リン酸処理と比べてマイルドであり、エナメル質の処理に懸念がある。本研究では2ステップ及び1ステップセルフエッチングシステムのエナメル質接着界面について、酸-塩基処理後に電子顕微鏡を用いて観察した。その結果、どの接着システムにおいても接着界面直下に酸‐塩基抵抗層(Acid-Base Resistant Zone, ABRZ)の形成が認められた。ABRZの形態は、接着システムによって異なり、2ステップでは質の高いABRZが観察されたが、1ステップではABRZ直下にErosionが形成された。リン酸処理によってABRZは肥厚し、1ステップでは必須であることがわかった。
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