| 研究課題/領域番号 |
16H04548
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
塚田 隆夫 東北大学, 工学研究科, 教授 (10171969)
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| 研究分担者 |
阿尻 雅文 東北大学, 材料科学高等研究所, 教授 (60182995)
小宮 敦樹 東北大学, 流体科学研究所, 准教授 (60371142)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
17,290千円 (直接経費: 13,300千円、間接経費: 3,990千円)
2018年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2017年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2016年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
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| キーワード | ナノフルイド / コンタクトライン / 位相シフトエリプソメトリ / 先行薄膜 / ナノ粒子 / 構造形成 / 数値シミュレーション / 超臨界水熱合成 / 位相シフトエリプソメトリー |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，ポリジメチルシロキサン（PDMS）で表面修飾したSiO2ナノ粒子をPDMS中に分散した懸濁液を対象として，懸濁液滴がSi基板上を拡張する際にコンタクトライン前方に存在する先行薄膜のナノスケール膜厚分布を位相シフトエリプソメータにより観察し，ナノ粒子の存在の影響について検討した。また，溶媒蒸発時の表面修飾ナノ粒子の構造形成の数値シミュレーションを実施し，溶媒蒸発過程及び蒸発後の粒子多層膜の構造に及ぼす有機溶媒，修飾有機分子の種類およびその表面修飾率の影響を明らかにした。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
ナノフルイドは，3Dプリンティングやプリンテッドエレクトロニクス用の高濃度低粘性ナノインクへの応用等，電気・電子，自動車，医療等々の様々な分野への応用が期待される新たな機能性流体材料である。ナノフルイドの応用技術，例えば，プリンテッドエレクトロニクスにおけるパターン線幅やパターン形状の高精度化には，ナノフルイドの動的濡れ性の解明は不可避の課題である。本研究で得られた成果は，このような課題解決に当って，有用な知見を与えるものである。
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