| 研究課題/領域番号 |
16K04939
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用物性
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| 研究機関 | 宇部工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
碇 智徳 宇部工業高等専門学校, 電気工学科, 教授 (40419619)
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| 研究分担者 |
内藤 正路 九州工業大学, 大学院工学研究院, 教授 (60264131)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2018年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2017年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2016年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
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| キーワード | 表面・界面物性 / グラフェン / SiC / 準安定原子誘起電子分光法 / イオン液体 / 超薄膜 |
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| 研究成果の概要 |
有機分子(イオン液体(IL))のための実験環境の整備と有機分子の挙動を制御するための実験を行った。実験環境の整備として、飛行時間差型準安定原子源の開発と試料準備(IL等の有機材料蒸着)室の構築を行った。SiC基板では、加熱温度に伴ってグラフェンや幾つかの再構成表面を形成する。これらの表面に対して異種原子を導入することで、基板表面の電荷を制御した。表面構造や表面電荷が有機分子の振舞に与える影響を調べた。主な分析手法として、表面構造を低速電子線回折により観察し、電子状態を準安定原子誘起電子分光により観測した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
グラフェン及びSiC再構成表面への異種原子導入による局所的な電荷の制御や最表面構造による有機分子(イオン液体(IL)等)の配向等の振舞を制御できれば、エネルギー貯蔵デバイスの高効率化や微細化へ貢献できる。表面の水素化や酸化に関する知見は、表面の特徴を利用したデバイス開発において、非常に重要である。特に酸化については、アルカリ金属触媒を用いることで、従来のプロセスよりも低温で高効率に良質な膜を形成することが出来る。また、飛行時間差型準安定原子源の開発により、表面上の原子や有機分子による構造を傷つけることなく、最表面から真空側に浸み出した局所的な電子状態の観測を実現した。
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