| 研究課題/領域番号 |
16K04964
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 横浜市立大学 |
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研究代表者 |
重田 諭吉 横浜市立大学, 生命ナノシステム科学研究科(八景キャンパス), 教授 (70106293)
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| 研究分担者 |
戸坂 亜希 横浜市立大学, 生命ナノシステム科学研究科(八景キャンパス), 助教 (20436166)
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| 研究協力者 |
中田 淳也
吉田 竜馬
萩原 裕人
樋口 森生
中島 翔太
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2018年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2017年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2016年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
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| キーワード | RHEED / Surface Fine Structure / Kikuchi Pattern / Surface Fin Structure / 表面・界面物性 |
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| 研究成果の概要 |
本研究は、表面の微細構造変化（特に歪）のその場測定として菊池パターンを用いる新たな測定手法の確立を目的として実施された。菊池パターンは、1枚の回折像に種々の入射条件における回折強度の情報を含んでおり、正確な構造解析が可能である。そこで、動力学的回折理論で計算されるロッキングカーブの強度分布と比較し、菊池線や菊池エンベロープの位置は、表面の局所ポテンシャルの影響をも含み、正確に再現できることが分かった。また、強度分布を計算と比較することから、電子線の非弾性散乱確立の測定を試み、初歩的な結果を得た。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
ICやLSIの新機能創成には、半導体表面における材料の複合化や微細加工技術が不可欠です。その複合化や微細加工の過程で微少な歪が、接合や加工精度に影響を与え、新機能の創成を左右する要因と成ります。そのような微少歪を作成段階で観測し評価できる1つの手法として、高速電子線による回折現象を利用する方法を確立したい。高速電子線の回折像には、菊池パターンと呼ばれる線状の輝線が現れるが、これまで構造解析には用いられていなかったが、このパターンは、構造情報を多く含んでおり、量子計算と比較することで有効に利用できることが分かってきた。
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