| 研究課題/領域番号 |
16K11666
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
歯科医用工学・再生歯学
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| 研究機関 | 愛知学院大学 |
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研究代表者 |
林 達秀 愛知学院大学, 歯学部, 准教授 (70367621)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2018年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2017年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2016年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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| キーワード | 生体材料 / 原子層堆積 / 超薄膜 / 純チタン / 細胞適合性 / オッセオインテグレーション / ジルコニア / シリカ / 細胞増殖試験 / 原子層堆積（ALD） / シリカ（SiO2） / in vitro / マウス線維芽細胞様細胞（L929） / 細胞増殖 / ジルコニア（ZrO2） / マウス骨芽細胞様細胞（MC3T3-E1） / 電子ビーム粉末積層造形（EBM） / in vivo |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、歯科用インプラント材料として用いられる純チタン試料上に、原子層堆積（ALD）によってジルコニアまたはシリカの超薄膜を成膜し、同試料上における細胞増殖能を評価した。
ジルコニアまたはシリカ超薄膜試料の溶出試験において、ジルコニウムあるいはシリコンとも検出限界値以下であったことから、何れも純チタン表面上に化学的に安定して成膜されていることが分かった。また 細胞増殖試験の結果から、特にジルコニア超薄膜試料は、純チタンあるいはシリカ超薄膜試料よりも骨芽細胞様細胞との親和性が高いことが示唆された．
以上から、原子層堆積は純チタンの新たな表面処理法となり得る可能性があると考える。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
歯科において、インプラント材料を中心に様々な表面処理法が考案されている。ALDは半導体工学分野を中心に 既に応用されている技術である一方、歯科あるいは医科においてはほぼ未知の分野である。したがって、ALD処理した移植用材料が、優れた骨欠損治癒能力を有することが証明できる。あるいは、ALD処理した歯科用インプラント材料がより高いオッセオインテグレーション能を獲得できることが証明できれば、ALDが新たな生体移植用材料の有効な表面処理法になり得ることを提唱することができ、歯科界のみならず 医療界全体への貢献は計り知れないと考える。
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