| 研究課題/領域番号 |
18205014
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
高田 十志和 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (40179445)
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| 研究分担者 |
小山 靖人 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (10456262)
小西 玄一 東京工業大学, 大学院理工学研究科, 助教授 (20324246)
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| 研究期間 (年度) |
2006 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
51,090千円 (直接経費: 39,300千円、間接経費: 11,790千円)
2009年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
2008年度: 6,890千円 (直接経費: 5,300千円、間接経費: 1,590千円)
2007年度: 7,020千円 (直接経費: 5,400千円、間接経費: 1,620千円)
2006年度: 31,070千円 (直接経費: 23,900千円、間接経費: 7,170千円)
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| キーワード | 硫黄 / 硫黄資源 / 有効利用技術 / 含硫黄高分子 / 特性解析 |
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| 研究概要 |
硫黄資源の高度利用を目的とした硫黄の高付加価値化技術開発の基礎を築き、また新しい研究領域・分野をつくることを目的に、新規な硫黄含有物質の合成とそれらの特性評価を行った。その結果(1)原子屈折の大きな硫黄を含む新規高屈折率ポリマーの合成を進め、9,9-ジアリールフルオレン構造及び9,9'-スピロビフルオレン構造含有ポリチオエーテル・ポリスルホンの合成と屈折率、複屈折率、アッベ数の評価を行い、高屈折率且つ低複屈折ポリマーの創出に成功した。さらに(2)硫黄原子含有リサイクルポリマーの開発に着手した。すなわち、芳香族ジスルフィドの結合エネルギーは非常に弱く、光などの外部刺激によって開裂する性質に着目し、芳香族ジスルフィド化合物の動的な共有結合を利用したインターロック分子の形成反応を確立した。この反応系を架橋高分子へ応用し、インターロック結合による架橋高分子のリサイクルという新概念を創出した。
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