| 配分額 *注記 |
13,840千円 (直接経費: 11,500千円、間接経費: 2,340千円)
2008年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2007年度: 8,060千円 (直接経費: 6,200千円、間接経費: 1,860千円)
2006年度: 3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
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| 研究概要 |
金属線やロッドに電流を流すとジュール加熱で, 材料表面から電子放出や材料の気化が起き, 材料近傍の絶縁耐圧が低下し, 放電へと至る. 本研究では, この放電プラズマの高密度化, 大体積化, 複合化を目的に, 磁気駆動, ロッドの長大化および並列駆動, 雰囲気ガスや, 電極およびロッド材の組合せによる, 複合プラズマの生成を行った. 窒素中で炭素シャンティングアーク放電を生成し, 窒素と炭素の複合プラズマの生成に成功した. このプラズマを用いて成膜を行ったところ, N/C比率は窒素気圧2Pa, ターゲット電圧-2kVで0.58となった. またチタン電極と炭素ロッドの組合せで, Ti含有のDLC膜が堆積できた.
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