| 研究課題/領域番号 |
18K18863
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| 研究種目 |
挑戦的研究(萌芽)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 審査区分 |
中区分21:電気電子工学およびその関連分野
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
多喜川 良 九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (80706846)
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| 研究期間 (年度) |
2018-06-29 – 2021-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2020年度)
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| 配分額 *注記 |
6,240千円 (直接経費: 4,800千円、間接経費: 1,440千円)
2020年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2019年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2018年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
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| キーワード | 大気低温接合 / 金属極薄膜接合 / 金属薄膜接合 / 簡便な常温接合 / 大気開放・局所活性化雰囲気 / 光素子実装・集積 / 表面活性化原子拡散接合 / 異種材料集積化 / 大気中常温実装 |
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| 研究成果の概要 |
極薄の金属薄膜を大気開放下で表面活性化可能な手法を検討し、活性金属密着層を介した大気常温接合の可能性について検討した。大気開放・局所活性化雰囲気における接合機構を作製し、接合実験を行った。金属薄膜の表面活性化と接合メカニズム把握に向けて多くの知見の取得に成功するとともに、条件によっては光学応用で重要な酸化物材料の大気常温（ないし低温）接合が可能であることも分かった。本研究により、将来の簡便な大気中常温接合プロセスの実現に向けた基礎データ取得に繋がった。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本成果は、真空・大気下における金属薄膜の表面活性化状態と接合メカニズム把握に繋がり学術的な価値は高い。また、大規模な真空引き装置を必要としない将来の簡便な大気中プロセス実現に寄与する可能性があり産業的にも価値があると考えられる。
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