研究課題/領域番号 |
19206105
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
原子力学
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研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
研究代表者 |
神谷 富裕 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 課長 (70370385)
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研究分担者 |
西川 宏之 芝浦工業大学, 工学部, 教授 (40247226)
関 修平 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30273709)
杉本 雅樹 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (90354943)
石井 保行 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (00343905)
佐藤 隆博 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (10370404)
大久保 猛 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究職 (40446456)
芳賀 潤二 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 出向職員 (00414566)
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研究期間 (年度) |
2007 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
45,890千円 (直接経費: 35,300千円、間接経費: 10,590千円)
2010年度: 10,790千円 (直接経費: 8,300千円、間接経費: 2,490千円)
2009年度: 11,310千円 (直接経費: 8,700千円、間接経費: 2,610千円)
2008年度: 16,120千円 (直接経費: 12,400千円、間接経費: 3,720千円)
2007年度: 7,670千円 (直接経費: 5,900千円、間接経費: 1,770千円)
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キーワード | ナノデバイス / マイクロマシン / マイクロビーム / 3Dナノ構造創製 / マスクレ描画 / ナノ細線 / MEMS / イオンマイクロビーム / マスクレス多重露光 / SU-8レジスト / 遊星歯車構造 / シングルイオンヒット描画 / マスクレス露光 / レジスト / 高アスペクト比 / 空間分解能 |
研究概要 |
ナノデバイスあるいはマイクロマシン創製の基盤技術として、MeV以上の高エネルギーイオンマイクロビームの特長を活かした3Dナノ構造創製技術を開発した。研究では、研究代表者自らが開発した各種のマイクロビーム装置を駆使し、その多様性、高空間分解能、高密度エネルギー付与、および長飛程の特長を活かし、それらを組み合わせてマスクレス描画する技術を開発し、ナノ細線を含む3次元微細構造の創製に見通しを得た。
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