| 研究課題/領域番号 |
19540414
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
原子・分子・量子エレクトロニクス・プラズマ
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| 研究機関 | 埼玉大学 |
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研究代表者 |
大向 隆三 埼玉大学, 教育学部, 准教授 (40359089)
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| 研究分担者 |
近藤 一史 埼玉大学, 教育学部, 准教授 (40178421)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2009年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2008年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2007年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | 原子リソグラフィー / 計算機ホログラム / レーザー冷却 |
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| 研究概要 |
新たなナノ加工技術になると期待される原子リソグラフィー技術において、計算機ホログラムと近接場で発生させた光マスクで原子の微細構造物を作製する基盤技術を開発した。具体的には、原子源となる極低温原子の発生効率を100倍程度高める技術の開発に成功するとともに、光マスク生成用に紫色半導体レーザーをベースした光源を開発した。さらに原子描画性能に大きな影響を及ぼす光マスクの安定性について、2時間にわたり周波数にして0.4MHz以下の変動以内で高安定に発生する技術を開発した。
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