| 研究課題/領域番号 |
19550127
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 東京理科大学 |
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研究代表者 |
湯浅 真 東京理科大学, 理工学部・工業化学科, 教授 (40192801)
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| 研究分担者 |
村田 英則 東京理科大学, 理工学部, 助教 (50367075)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2009年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2008年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2007年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 超臨界二酸化炭素 / 導電性高分子 / ポルフィリン / 電解重合 / 薄膜 / チオフェン / ピロール / アニリン |
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| 研究概要 |
導電性高分子薄膜の一検討として、超臨界二酸化炭素環境下において、ポルフィリンを含有する単量体の電解酸化重合を行いました。ポルフィリンを活性部位とする緻密かつ平坦な高分子薄膜が得られ、この薄膜系について酸素還元触媒の活性が得られました。超臨界二酸化炭素環境下での高分子薄膜の合成、その薄膜系における燃料電池カソード触媒への検討等に関して、多くの貴重かつ有用な知見が集積できました。
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