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アモルファス酸化物半導体における熱輸送に着目した高性能フレキシブル熱電素子の研究

研究課題

研究課題/領域番号 19H02601
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究機関奈良先端科学技術大学院大学

研究代表者

浦岡 行治  奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 教授 (20314536)

研究分担者 上沼 睦典  奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 准教授 (20549092)
Bermundo J.P.S  奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 助教 (60782521)
石河 泰明  奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 准教授 (70581130)
研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2022-03-31
研究課題ステータス 完了 (2021年度)
配分額 *注記
17,420千円 (直接経費: 13,400千円、間接経費: 4,020千円)
2021年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2020年度: 5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
2019年度: 7,800千円 (直接経費: 6,000千円、間接経費: 1,800千円)
キーワード熱電変換素子 / 酸化物半導体 / 薄膜半導体 / 原子層堆積法 / 半導体デバイス / 熱電素子 / ゼーベック効果 / 半導体 / 酸化物 / 熱抵抗 / 電気抵抗 / 金属酸化物 / フレキシブル基板 / 薄膜トランジスタ / 薄膜材料 / 熱輸送 / 熱伝導度 / 3次元構造
研究開始時の研究の概要

高性能な熱電素子を実現するためには、電気伝導度と熱伝道率の独立した制御が不可欠である。一方で、酸化物半導体は、アモルファスでも移動度が高い、低温で薄膜形成が可能、液体プロセスでも形成可能といった興味深い特徴を有している。我々は、これらの特徴は、熱電素子に必要不可欠な熱伝導率制御の可能性を示唆しているのではないかと考えた。そこで、「結晶性」、「形成プロセス方法」、「デバイス構造」の観点から、系統的に実験を進め、アモルファス酸化薄膜における熱輸送の物理を明らかにすると同時にフレキシブル熱電素子の動作実証によって、その原理を検証する。

研究成果の概要

200℃以下の低温領域の廃熱を利用することを目的として、新しい薄膜材料を使った熱電変換素子を提案した。用いた材料はInGaZnOをはじめとする酸化物半導体であり、アモルファスでも移動度が高い、低温で薄膜形成が可能、液体プロセスでも形成可能である。そこで、「結晶性」、「形成プロセス方法」、「デバイス構造」のそれぞれの観点から、系統的に実験を進め、さらに熱伝導率の低減を可能にする3次元周期的ナノ構造プロセスなど新しい発想を加えることで、アモルファス酸化薄膜における熱輸送の物理を明らかにし、同時にフレキシブル熱電素子の動作実証によって、その原理を検証した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

地球温暖化の防止にむけて、再生エネルギーの研究は喫緊の課題である。本研究では、熱を電気に変換し、電子機器の電源に活用する半導体プロセスや半導体素子の研究を行った。特に、酸化物半導体は、提案形成が可能、電気特性が優れるといった特長を有している。本研究では、酸化物半導体を活用して、効率の高い、使いやすい熱電変換素子の研究を行い、有意義な研究成果を得た。

報告書

(4件)
  • 2021 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2020 実績報告書
  • 2019 実績報告書
  • 研究成果

    (23件)

すべて 2022 2021 2020 2019 その他

すべて 国際共同研究 (1件) 雑誌論文 (12件) (うち国際共著 2件、 査読あり 12件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (9件) (うち国際学会 9件、 招待講演 5件) 図書 (1件)

  • [国際共同研究] エコールポリテクニーク(フランス)

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [雑誌論文] Insulator-to-semiconductor conversion of solution-processed ultra-wide bandgap amorphous gallium oxide via hydrogen annealing2022

    • 著者名/発表者名
      Diki Purnawati, Juan Paolo Bermundo, and Yukiharu Uraoka
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 15 号: 2 ページ: 024003-024003

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ac466a

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High Mobility silicon indium oxide thin-film transitors fabricated by sputtering process2022

    • 著者名/発表者名
      S. Arulkumar, S. Parthiban, J.Y.Kwon, Y.Uraoka, J.P.S. Bermundo, Arka Mukherjee, Bikas C. Das
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 199 ページ: 110963-110963

    • DOI

      10.1016/j.vacuum.2022.110963

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Improved Thermoelectric Power Factor of InGaZnO/SiO2 Thin Film Transistor via Gate-Tunable Energy Filtering2021

    • 著者名/発表者名
      Jenichi Felizco, Mustunori Uenuma, Mami N. Fujii, and Yukiharu Uraoka
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 42 号: 8 ページ: 1236-1239

    • DOI

      10.1109/led.2021.3093036

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization of A-Si Thin Films on Polyimide Using a Heatsink Layer Embedded in the Buffer SiO22021

    • 著者名/発表者名
      Nobuo Sasaki, Muhammad Arif, Yukiharu Uraoka, Jun Gotoh, Shigeto Sugimoto
    • 雑誌名

      Journal of ELECTRONIC MATERIALS

      巻: 50 号: 6 ページ: 2974-2980

    • DOI

      10.1007/s11664-021-08751-9

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Optimizing the thermoelectric performance of InGaZnO thin films depending on crystallinity via hydrogen incorporation2020

    • 著者名/発表者名
      Felizco Jenichi Clairvaux、Uenuma Mutsunori、Ishikawa Yasuaki、Uraoka Yukiharu
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 527 ページ: 146791-146791

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2020.146791

    • NAID

      120007146511

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhanced Thermoelectric Transport and Stability in Atomic Layer Deposited-HfO2/ZnO and TiO2/ZnO-Sandwiched Multilayer Thin Films2020

    • 著者名/発表者名
      Felizco Jenichi、Juntunen Taneli、Uenuma Mutsunori、Etula Jarkko、Tossi Camilla、Ishikawa Yasuaki、Tittonen Ilkka、Uraoka Yukiharu
    • 雑誌名

      ACS Applied Materials & Interfaces

      巻: 12 号: 43 ページ: 49210-49218

    • DOI

      10.1021/acsami.0c11439

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] High-Performance Fully Solution-Processed Oxide Thin-Film Transistors via Photo-Assisted Role Tuning of InZnO2020

    • 著者名/発表者名
      Corsino Dianne C.、Bermundo Juan Paolo S.、Kulchaisit Chaiyanan、Fujii Mami N.、Ishikawa Yasuaki、Ikenoue Hiroshi、Uraoka Yukiharu
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: 2 号: 8 ページ: 2398-2407

    • DOI

      10.1021/acsaelm.0c00348

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improvement in Bias Stress Stability of Solution-Processed Amorphous InZnO Thin-Film Transistors via Low-Temperature Photosensitive Passivation2020

    • 著者名/発表者名
      Safaruddin Aimi Syairah、Bermundo Juan Paolo Soria、Yoshida Naofumi、Nonaka Toshiaki、Fujii Mami N.、Ishikawa Yasuaki、Uraoka Yukiharu
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 41 号: 9 ページ: 1372-1375

    • DOI

      10.1109/led.2020.3011683

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Unique degradation under AC stress in high-mobility amorphous InWZnO thin-film transistors2020

    • 著者名/発表者名
      Takahashi Takanori、Fujii Mami N.、Miyanaga Ryoko、Miyanaga Miki、Ishikawa Yasuaki、Uraoka Yukiharu
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 5 ページ: 054003-054003

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ab88c5

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Development of High-Reliability and -Stability Chemical Sensors Based on an Extended-Gate Type Amorphous Oxide Semiconductor Thin-Film Transistor2020

    • 著者名/発表者名
      Yuki Hashima, Takanori Takahashi, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka
    • 雑誌名

      ACS Appl. Electron. Mater.

      巻: 2 号: 2 ページ: 405-408

    • DOI

      10.1021/acsaelm.9b00844

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Hot carrier effects in InGaZnO thin-film transistor2019

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, R. Miyanaga, M. N. Fujii, J. Tanaka, K. Takechi, H. Tanabe, J. P. Bermundo, Y. Ishikawa and Y. Uraoka
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 12 号: 9 ページ: 094007-094007

    • DOI

      10.7567/1882-0786/ab3c43

    • NAID

      210000156978

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Degradation phenomenon in metal-oxide semiconductor thin-film transistors and technique for its reliability evaluation and suppression2019

    • 著者名/発表者名
      Y.Uraoka, J. P. Bermundo, M.N. Fujii, M. Uenuma, and Y. Ishikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 9 ページ: 090502-090502

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab1604

    • NAID

      210000155669

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] High performance Metal Oxide Thin Film Transistors for flexible Devices2021

    • 著者名/発表者名
      Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      MRM2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] High Metal Oxide Thin Film Transistors fabricated by Solution Process2021

    • 著者名/発表者名
      Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      ITC2020-2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Metal Oxide Thin Film Transistors fabricated by Solution Process2021

    • 著者名/発表者名
      Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      ICFPE 2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Degradation Mechanism of High Mobility Oxide Thin Film Transistors for Next Generation Display2021

    • 著者名/発表者名
      Yukiharu Uraoaka
    • 学会等名
      ICDT (Inetrnational Conference on Display Technology)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Bayesian optimization and expected hyper volume improvement for SiO2/GaN capacitor2020

    • 著者名/発表者名
      Mutsunori Uenuma, Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Hot Carrier Degradation in High Mobility Metal Oxide Thin Film Transistors2020

    • 著者名/発表者名
      Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      SID2020
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Thermoelectric Properties in Thin Film with pn Junction2019

    • 著者名/発表者名
      Hoshito Murakawa, Mutsunori Uenuma, Jenichi Felizco, Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      17th European Conference on Thermoelectrics
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Film TEG with Controlled Heat Flow2019

    • 著者名/発表者名
      Mutsunori Uenuma, Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      17th European Conference on Thermoelectrics
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Inducing Thermoelectricity in C-axis Aligned Crystalline InGaZnO Thin Film via Hydrogen Annealing2019

    • 著者名/発表者名
      Jenichi Clairvaux Felizco, Hoshito Murakawa, Yasuaki Ishikawa, Yukiharu Uraoka
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [図書] マテリアルインフォマティクス Q&A集2020

    • 著者名/発表者名
      浦岡行治他
    • 総ページ数
      596
    • 出版者
      株式会社 情報機構
    • ISBN
      9784865022049
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書

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公開日: 2019-04-18   更新日: 2023-12-25  

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