| 研究課題/領域番号 |
20360414
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
核融合学
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| 研究機関 | 愛知工業大学 |
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研究代表者 |
高村 秀一 愛知工業大学, 工学部, 教授 (40023254)
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| 連携研究者 |
栗下 裕明 東北大学, 金属材料研究所, 准教授 (50112298)
高橋 昭如 東京理科大学, 工学部, 准教授 (00366444)
大野 哲靖 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 教授 (60203890)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
18,330千円 (直接経費: 14,100千円、間接経費: 4,230千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2010年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2009年度: 8,320千円 (直接経費: 6,400千円、間接経費: 1,920千円)
2008年度: 5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
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| キーワード | プラズマ・核融合 / プラズマ-壁相互作用 / タングステン / 繊維状ナノ構造ヘリウム損傷 / 高熱流プラズマ生成 / 黒体 / 熱伝達係数 / プラズマ－壁相互作用 / 繊維状ナノ構造 / ヘリウム損傷 / プラズマ生成 / プラズマ源 / ナノ構造 / 高温電子 / プラズマー壁相互作 / 高粒子束 / 高熱流束 |
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| 研究概要 |
高密度(-1018m-3)、2電子温度(高温~30eV,低温~5eV)のプラズマを発生する装置AIT-PIDを完成し、これを用いてタングステン(W)の収容なヘリウム損傷であるナノ構造形成過程の観察と、そのようなWの表面特性(電子放出、赤外線放射特性、スパッタリング等)を明らかにすると共に、プラズマ・アニーリングによるその修復を示し、また炭素薄膜によるナノ構造形成の抑制法を示した。
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