| 研究課題/領域番号 |
20K03843
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分13030:磁性、超伝導および強相関系関連
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| 研究機関 | 公益財団法人電磁材料研究所 |
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研究代表者 |
池田 賢司 公益財団法人電磁材料研究所, その他部局, 研究員 (40769569)
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| 研究分担者 |
小林 伸聖 公益財団法人電磁材料研究所, その他部局等, 研究員 (70205475)
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| 研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2023-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2022年度)
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| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2022年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2021年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2020年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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| キーワード | 磁気光学材料 / ナノグラニュラー / 零磁界 / ファラデーループ / ヒステリシス / ナノグラニュラー薄膜 / ファラデー回転角 / 保磁力 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
ナノグラニュラー材料は、ナノメートルサイズの金属微粒子が誘電体マトリックス中に分
散した構造を有しており、その特異なナノ構造に由来した様々な物性を示す。本研究の目的は、微細加工性に優れた大きな磁気光学効果を示す薄膜を開発し、フォトニック結晶へ適用することにより、集積フォトニクス技術における磁気光学効果の有効性を検証することにある。微細加工技術が適用できるナノグラニュラー材料の開発は、様々な分野への応用に不可欠のものであり、その技術的な波及効果は大きい。本研究のナノグラニュラー材料を応用することで次世代の光デバイスの創生に貢献する。
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| 研究成果の概要 |
本研究は零磁界において高い磁気光学効果を発現する材料の開発を試みたものである。FeCo-SiNナノグラニュラー膜は、磁気ヒステリシスを有することから零磁界で磁気光学効果を示すが、光透過性が低いためデバイス応用に必要な性能指数が低い問題があった。本検討では、光透過性の高い層をナノメートルスケールで交互に積層することにより、光透過性と磁気ヒステリシスを両立し、零磁界において高い性能指数を有する磁気光学薄膜の作製に成功した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究は零磁界において磁気光学効果を発現する材料の開発を試み、光透過性の改善により実用デバイスへの適用可能性を高めたものである。この材料の開発に伴い、永久磁石などの磁界がない環境においても、磁気光学効果を得ることが可能となる。従来まで永久磁石を必要としていたアイソレータなどの光学部品を磁石レスで作製することが可能となれば、飛躍的な縮小化につながるため、次世代通信機器の利便性向上に大きく資するものであると考えられる。
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