| 研究課題/領域番号 |
21550171
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能材料・デバイス
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| 研究機関 | 室蘭工業大学 (2010-2011)
大阪大学 (2009) |
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研究代表者 |
中野 英之 室蘭工業大学, 大学院・工学研究科, 教授 (00222167)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2009年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | フォトメカニカル効果 / 光誘起物質移動 / フォトクロミックアモルファス分子材料 / アゾベンゼン / 光異性化 / 偏光 / 量子ドット / ホログラム / 混合膜 / 結晶化 / 可塑化 |
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| 研究概要 |
新しい原理に基づく高性能書き換え可能ホログラムの開発を志向して、光誘起表面レリーフ回折格子(SRG)形成用の候補となる新規アゾベンゼン系フォトクロミックアモルファス分子材料の設計・合成を行うとともに、これまでに開発してきた材料も含め、SRG形成をはじめとする光誘起物質移動に関する研究を行い、光誘起物質移動に関わる重要な知見を得るとともに、材料開発指針を得た。
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