| 研究課題/領域番号 |
21550188
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 山梨大学 |
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研究代表者 |
柴田 正実 山梨大学, 大学院・医学工学総合研究部, 教授 (40115316)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2011年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2010年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2009年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
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| キーワード | 電気化学 / 機能性ガラス / 電析 / 金属ガラス / ガラス転移温度 / 結晶化温度 / ジルコニウム基 / パラジウム基 / 薄膜形成 |
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| 研究概要 |
電流密度およびPd-Ni-P浴組成を調整することにより、電析Pd-Ni-P薄膜組成を制御できた。バルク金属ガラスと同様に、Pd36-57at%, Ni25-43at%, P17-20at%の組成をもつ電析Pd-Ni-P薄膜は金属ガラスであることが分かった。電析Pd-Ni-P金属ガラス薄膜のガラス形成能は、バルク金属ガラスと同様にPd40at%程度が最もよいことが分かった。
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