| 研究課題/領域番号 |
21760630
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
触媒・資源化学プロセス
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
亀川 孝 大阪大学, 工学研究科, 助教 (50525136)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2010年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2009年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 光触媒 / シングルサイト光触媒 / 四配位金属酸化物種 / ドライプロセス / 化学蒸着(CVD)法 / メソポーラスシリカ / ゼオライト / 可視光利用 / メソ多孔性シリカ / CO酸化反応 / メソ多孔性材料 / Cr,Ti酸化物 / エチレンの光重合 |
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| 研究概要 |
ドライプロセスの一つである化学蒸着(CVD)法を用い、金属塩化物・有機金属錯体・金属アルコキシド等をビルディングブロックとし、逐次的にCVD処理を施すボトムアップ型アプローチにより、各種固体表面上にて原子・分子レベルで異種の四配位金属酸化物種を積層・複合化した光触媒材料を調製した。それらのキャラクタリゼーションを行うと共に、紫外光・可視光照射下で優れた光触媒作用を示すことを明らかにした。
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