| 研究課題/領域番号 |
21K17048
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| 研究種目 |
若手研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 審査区分 |
小区分57050:補綴系歯学関連
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| 研究機関 | 東京歯科大学 |
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研究代表者 |
小田 由香里 東京歯科大学, 歯学部, 助教 (20778518)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2023年度)
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| 配分額 *注記 |
3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2023年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2022年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2021年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | streptococci / 中性2%NaF / 大気圧プラズマ照射 / インプラント周囲炎 / 表面処理 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
インプラント周囲炎はインプラント治療における生物学的合併症の一つであり、明確な予防法および治療法がない。現在、インプラント周囲炎の発症において、初期定着細菌群のレンサ球菌群が関連すると示唆されている。しかしながら、どのような表面処理方法がレンサ球菌群の付着を抑制するかは明らかになっていない。そこで、レンサ球菌の付着抑制法を確立できれば、インプラントメインテナンスにおけるインプラント周囲炎発症予防法の確立につながる可能性が非常に高いと考えた。本研究は、レンサ球菌群をターゲットとし、その付着を抑制する表面処理法を確立し、インプラント周囲炎の発症予防へ応用することを目的としている。
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| 研究成果の概要 |
歯面の初期定着細菌であるstreptococciの付着を抑制することは、病原性を持つ後期定着細菌群の付着抑制に繋がる可能性が高く、化学的および物理的処理をした材料表面におけるstreptococciの付着抑制効果について評価した。
化学的処理法である中性2%NaFの塗布はチタンおよびジルコニア表面上のS.sanguinis,S.gordoniiおよびS.oralisの付着を抑制した。また、物理的処理法である大気圧プラズマ照射も、S.sanguinisおよびS.gordoniiにおいて有効であった。streptococciの付着抑制における中性2%NaFおよび大気圧プラズマ照射は有効な方法である。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
近年、インプラント周囲炎は増加傾向にあるが、明確な予防法がないため、インプラント除去となるケースがとても多い。インプラント周囲炎の発症を防ぐ方法の確立は大きな課題である。
研究成果より、インプラント表面の処理において、化学的処理法である中性2%NaFの塗布、および物理的処理法である大気圧プラズマ照射が、streptococciの付着を抑制したため、インプラント周囲炎のバイオフィルムにおける後期定着細菌群の付着も抑制する可能性が高いと考えられ、インプラント周囲炎の予防法確立のための一歩である。また、これらの処理法は簡便であるため、実際の臨床、特にインプラントメインテナンスの場でも非常に用いやすい。
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