| 研究課題/領域番号 |
22550098
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
合成化学
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
山口 良平 京都大学, 大学院・人間環境学研究科, 名誉教授 (40115960)
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| 研究分担者 |
藤田 健一 京都大学, 人間・環境学研究科(研究院), 准教授 (80293843)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2010年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 錯体・有機金属触媒 / 脱水素化反応 / 水素化反応 / 含窒素複素環 / 水素貯蔵システム / イリジウム錯体 / 有機金属錯体触媒 / 有機ヒドリド / イリジウム |
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| 研究概要 |
種々の機能性配位子を有する新規イリジウム錯体触媒を設計・合成し、それらを用いて含窒素複素環の効率的な均一系脱水素化/水素化反応触媒反応の開発を行った。その結果、6%の水素貯蔵率の有機ヒドリド分子を用い、比較的温和な条件下で効率的な脱水素化/水素化触媒系の開発に成功した。この新触媒系は新しい効果的な水素貯蔵システム構築の基盤となるものである。
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