| 研究課題/領域番号 |
23350005
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物理化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 (2013)
名古屋大学 (2011-2012) |
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研究代表者 |
大内 幸雄 東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (60194081)
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| 連携研究者 |
森田 明弘 東北大学, 大学院理学研究科, 教授 (70252418)
石山 達也 富山大学, 理工学研究部, 講師 (10421364)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
19,240千円 (直接経費: 14,800千円、間接経費: 4,440千円)
2013年度: 5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2012年度: 5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2011年度: 8,580千円 (直接経費: 6,600千円、間接経費: 1,980千円)
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| キーワード | イオン液体 / 界面 / 電気二重層 / 表面・界面物性 |
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| 研究成果の概要 |
本研究は、古典的な希薄電解質溶液で定義される界面電気二重層が、無溶媒電解質液体であるイオン液体に暗黙の内に適用される誤った現状に鑑み、これを物理化学の基礎的問題として再構築し当該分野の誤謬の解決を図る。
我々はPt, Au基板上における超高純度イオン液体のアニオンならびにカチオンの吸着・脱着の電位依存性を、それぞれの電気化学窓内において赤外－可視和周波発生振動分光法(IV-SFG法)を用いて計測することに成功した。イオン液体の吸脱着の電位依存性は熱平衡状態にありながら電位ヒステリシスを伴い、その幅は1V程度にも達すること、またヒステリシスの形状が基板金属によっても異なることが分かった。
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