| 研究課題/領域番号 |
23656461
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
杉村 博之 京都大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10293656)
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| 研究分担者 |
一井 崇 京都大学, 大学院・工学研究科, 助教 (30447908)
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| 研究期間 (年度) |
2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2011年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
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| キーワード | 走査プローブ顕微鏡 / ナノリソグラフィ / 自己集積化単分子膜 / ナノプロープリソグラフィ |
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| 研究概要 |
絶縁基板におけるナノプローブリソグラフィを目的とし、そのレジスト膜の選定を行った。高精細なナノ加工を実現するためには、シングルナノメートルオーダーの超薄膜である必要がある。そこで本研究では、超薄膜でかつ一様性の高い自己集積化単分子膜(self-assembled monolayer ; SAM)に着目し、その特性を評価した。基板として、代表的な酸化物である酸化アルミニウムを用い、それを被覆可能なSAMとして、アルキルホスホン酸SAMに着目した。アルキルホスホン酸SAMは、原料分子を含むエタノール溶液に基板を浸漬する方法(液相法)により作製した。製膜濃度・温度の最適化により、欠陥がほとんどなく、かつ平坦性の高い高密度なSAMを得ることに成功し、アルキルホスホン酸SAMのレジスト膜としての有用性が確認された。
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