研究課題
若手研究(A)
基板上に高配向・均一なCeO2ナノ粒子単層薄膜を自己集合法により形成させ、CeO2ナノ粒子一つ一つを、へテロエピタキシャル成長させるためのナノスケールの基板として用いた。作製したナノ粒子単層薄膜上にスパッタ法を用いてTiO2を堆積させ、その後アニール処理を行うことで、CeO2ナノ粒子上にアナターゼ型TiO2が選択的に核形成しエピタキシャル成長したことを確認した。これにより急峻なナノスケール界面を持つTiO2{004}/CeO2{002}タンデムナノ粒子の作製に成功した。
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Jpn. J. Appl. Phys
巻: 52 号: 11R ページ: 1101131-8
10.7567/jjap.52.110113