研究課題
基盤研究(A)
本研究課題では、申請者が独自に開発した「固体高分子電解質を介したイオン輸送によるめっき法」を基盤技術として用い、「固(電解質膜)-液(電解液)界面におけるイオンの輸送過程を理論的・実験的に解析し、反応メカニズムを明らかにする。これにより、次世代の「廃液フリー超高速めっきシステム」の実現に向けた化学的アプローチを提案するとともに、省エネルギー性に優れた次世代回路基板製造への応用可能性を開拓する。