次世代リソグラフィ技術に対応した物理設計技術開発

• 研究課題/領域番号: 25280013
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 一部基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 計算機システム
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 高橋 篤司 東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (30236260)
• 研究分担者: 小平 行秀 会津大学, コンピュータ理工学部, 上級准教授 (00549298)
• 研究期間 (年度): 2013-04-01 – 2016-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2015年度)
• 配分額: 13,260千円 (直接経費: 10,200千円、間接経費: 3,060千円); 2015年度: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円); 2014年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円); 2013年度: 5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円)
• キーワード: 計算機システム / 設計技術 / 設計工学 / 製造容易化 / リソグラフィ

研究成果の概要

本研究は，ウエハ上に微細な回路パターンを実現するための次世代リソグラフィ技術として有望な2回露光技術，側壁プロセス技術などを効果的に用いて，高性能な集積回路を効率よく実現するために必要となる物理設計技術として，パターン分割アルゴリズム，折れ曲がり制約付最短路アルゴリズム，光強度分布見積もりアルゴリズムなど，製造と設計の双方に親和性の高い実用に十分耐え得る様々な物理設計技術を開発した．

研究成果

• [雑誌論文] Yield-aware mask assignment by positive semidefinite relaxation in triple patterning using cut process (2016)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) 巻: 15 号: 2 ページ: 1-7
  • DOI: 10.1117/1.jmm.15.2.021207
  • NAID: 120006582497
  • 査読あり
• [雑誌論文] A Fast Manufacturability Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm with Adaptive Wafer Image Estimation (2016)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016) 巻: 2016 ページ: 49-54
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Grid-based Self-Aligned Quadruple Patterning Aware Two Dimensional Routing Pattern (2016)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Toshiyuki Hongo, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016) 巻: 2016 ページ: 241-244
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] 半正定値計画緩和に基づくMPLレイアウト分割のための補正項 (2016)
  • 著者名/発表者名: 半田昌平，高橋篤司，中田和秀，松井知己
  • 雑誌名: 電子情報通信学会 総合大会 講演論文集 巻: A ページ: 86-86
  • NAID: 110010023125
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Self-Aligned Quadruple Patterningのための3色グリッド上の異色ネットを考慮した配線手法 (2016)
  • 著者名/発表者名: 本江俊幸，高橋篤司
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 115-465 ページ: 137-142
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Self-Aligned Double and Quadruple Patterning Aware Grid Routing Methods (2015)
  • 著者名/発表者名: Chikaaki Kodama, Hirotaka Ichikawa, Koichi Nakayama, Fumiharu Nakajima, Shigeki Nojima, Toshiya Kotani, Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi
  • 雑誌名: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems (TCAD) 巻: 34-5 号: 5 ページ: 753-765
  • DOI: 10.1109/tcad.2015.2404878
  • 査読あり
• [雑誌論文] Effective Two-Dimensional Pattern Generation for Self-Aligned Double Patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS 2015) 巻: 2015 ページ: 2141-2144
  • DOI: 10.1109/iscas.2015.7169103
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Self-Aligned Quadruple Patterningのための配線パターンの効率的な生成手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，本江俊幸，高橋篤司
  • 雑誌名: DAシンポジウム2015論文集 巻: 2015 ページ: 125-130
  • NAID: 120006703934
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm for Optical Lithography (2015)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi
  • 雑誌名: DAシンポジウム2015論文集 巻: 2015 ページ: 119-124
  • NAID: 120006703932
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] マスク位置ずれに対する耐性を持つLELECUTトリプルパターニングのためのマスク割り当て手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，児玉親亮，松井知己，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 雑誌名: 次世代リソグラフィワークショップNGL2015予稿集 巻: 2015 ページ: 35-36
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Self-Aligned Quadruple Patterningのための3次配線アルゴリズムを用いた効率的な配線生成手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，高橋篤司
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 115-338 ページ: 93-98
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] 折れ曲がり制約を含む配線問題のNP完全性 (2015)
  • 著者名/発表者名: 本江俊幸，高橋篤司
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 115-21 ページ: 13-18
  • NAID: 110009893644
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Fast Mask Assignment using Positive Semidefinite Relaxation in LELECUT Triple Patterning Lithography (2015)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: Proc. Asia and South Pacific Design Automation Conference 2015 (ASP-DAC 2015) 巻: 2015 ページ: 665-670
  • DOI: 10.1109/aspdac.2015.7059084
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Yield-aware mask assignment using positive semidefinite relaxation in LELECUT triple patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: Proc. SPIE 9427, Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX 巻: 9427 ページ: 1-9
  • DOI: 10.1117/12.2085285
  • NAID: 120006703558
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm (2015)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 114-476 ページ: 1-6
  • NAID: 110010018827
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] 側壁プロセス配線におけるカットパターン削減手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 高橋紀之，井原岳志，高橋篤司
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 114-476 ページ: 7-12
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Rip-up and Reroute based Routing Algorithm for Self-Aligned Double Patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. the 19th Workshop on Synthesis And System Integration of Mixed Information technologies (SASIMI 2015) 巻: 19 ページ: 83-88
  • NAID: 120006703654
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，松井知己，横山陽子，児玉親亮，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 114-59 ページ: 27-32
  • NAID: 110009781844
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] LELEダブルパターニングのための歩留まりを考慮した高速マスク割り当て手法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，松井知己，横山陽子，児玉親亮，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 雑誌名: 次世代リソグラフィワークショップNGL2014予稿集 巻: 2014 ページ: 41-42
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] A New Intensity Based Edge Placement Error Optimization Algorithm for Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. the 27th Workshop on Circuits and Systems 巻: 27 ページ: 422-427
  • NAID: 120006703318
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Mask Optimization With Minimal Number of Convolutions Using Intensity Difference Map (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: DAシンポジウム2014論文集 巻: 2014 ページ: 145-150
  • NAID: 120006703316
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] A Process Variability Band Area Reduction Algorithm For Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: 電子情報通信学会 ソサイエティ大会 講演論文集 巻: A ページ: 50-50
  • NAID: 110009881485
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] A Fast Process Variation and Pattern Fidelity Aware Mask Optimization Algorithm (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 雑誌名: Proc. IEEE/ACM 2014 International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD 2014) 巻: 2014 ページ: 238-245
  • DOI: 10.1109/iccad.2014.7001358
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Multi Patterning Techniques for Manufacturability Enhancement in Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Atsushi Takahashi, Ahmed Awad, Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Chikaaki Kodama, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: Proc. the 2014 International Conference on Integrated Circuits, Design, and Verification (ICDV 2014) 巻: 2014 ページ: 117-122
  • 謝辞記載あり
• [雑誌論文] Positive Semidefinite Relaxation and Approximation Algorithm for Triple Patterning Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Tomomi Matsui, Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi
  • 雑誌名: Algorithms and computation, Lecture Notes in Computer Science 巻: 8889 ページ: 365-375
  • DOI: 10.1007/978-3-319-13075-0_29
  • ISBN: 9783319130743, 9783319130750
  • 査読あり
• [雑誌論文] Yield-aware decomposition for LELE double patterning (2014)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: Proc. SPIE 9053, Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability VIII 巻: 9053 ページ: 1-10
  • DOI: 10.1117/12.2046180
  • NAID: 120006703278
  • 査読あり
• [雑誌論文] Localization concept of re-decomposition area to fix hotspots for LELE process (2014)
  • 著者名/発表者名: Yoko Yokoyama, Keishi Sakanushi, Yukihide Kohira, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama, Satoshi Tanaka, Shigeki Nojima
  • 雑誌名: Proc. SPIE 9053, Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability VIII 巻: 9053 ページ: 1-8
  • DOI: 10.1117/12.2046263
  • NAID: 120006702996
  • 査読あり
• [雑誌論文] ダブルパターニングにおけるリソグラフィECOのためのパターン局所修正法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 宮辺祐太郎，高橋篤司，松井知己，小平行秀，横山陽子
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 113-454 ページ: 87-92
• [雑誌論文] 側壁ダブルパターニングのための修正2色グリッド配線法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，高橋篤司，児玉親亮
  • 雑誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 巻: 113-454 ページ: 93-98
• [雑誌論文] Overlap Area Maximization in Stitch Selection for LELE Double Patterning (2013)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Yoko Takekawa, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 雑誌名: 第26回 回路とシステムワークショップ論文集 巻: 26 ページ: 466-471
  • NAID: 120006702711
  • 査読あり
• [学会発表] 半正定値計画緩和に基づくMPLレイアウト分割のための補正項 (2016)
  • 著者名/発表者名: 半田昌平，高橋篤司，中田和秀，松井知己
  • 学会等名: 電子情報通信学会 総合大会
  • 発表場所: 九州大学（福岡県）
  • 年月日: 2016-03-15
• [学会発表] A Fast Manufacturability Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm with Adaptive Wafer Image Estimation (2016)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016)
  • 発表場所: ドレスデン国際会議センタ（ドイツ）
  • 年月日: 2016-03-14
  • 国際学会
• [学会発表] Grid-based Self-Aligned Quadruple Patterning Aware Two Dimensional Routing Pattern (2016)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Toshiyuki Hongo, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016)
  • 発表場所: ドレスデン国際会議センタ（ドイツ）
  • 年月日: 2016-03-14
  • 国際学会
• [学会発表] Self-Aligned Quadruple Patterningのための3色グリッド上の異色ネットを考慮した配線手法 (2016)
  • 著者名/発表者名: 本江俊幸，高橋篤司
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 沖縄県青年会館（沖縄県）
  • 年月日: 2016-02-29
• [学会発表] Self-Aligned Quadruple Patterningのための3次配線アルゴリズムを用いた効率的な配線生成手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，高橋篤司
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 長崎県勤労福祉会館(長崎県)
  • 年月日: 2015-12-01
• [学会発表] A Fast Lithographic Mask Manufacturing Cost Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm With Process Variability Consideration (2015)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: IEEE/ACM the Workshop on Variability Modeling and Characterization (VMC)
  • 発表場所: ダブルツリーオースチンホテル（米国）
  • 年月日: 2015-11-05
  • 国際学会
• [学会発表] Self-Aligned Quadruple Patterningのための配線パターンの効率的な生成手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，本江俊幸，高橋篤司
  • 学会等名: DAシンポジウム2015
  • 発表場所: ゆのくに天祥（福井県）
  • 年月日: 2015-08-26
• [学会発表] Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm for Optical Lithography (2015)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi
  • 学会等名: DAシンポジウム2015
  • 発表場所: ゆのくに天祥（福井県）
  • 年月日: 2015-08-26
• [学会発表] マスク位置ずれに対する耐性を持つLELECUTトリプルパターニングのためのマスク割り当て手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，児玉親亮，松井知己，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 学会等名: 次世代リソグラフィワークショップNGL2015
  • 発表場所: 蔵前会館（東京都）
  • 年月日: 2015-07-06
• [学会発表] Effective Routing Pattern Generation for Self-Aligned Quadruple Patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: Design Automation Conference 2015 (DAC 2015)
  • 発表場所: モスコーンセンタ（米国）
  • 年月日: 2015-06-07
  • 国際学会
• [学会発表] Effective Two-Dimensional Pattern Generation for Self-Aligned Double Patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: International Symposium on Circuits and Systems
  • 発表場所: べレムカルチャーセンタ（ポルトガル）
  • 年月日: 2015-05-24
  • 国際学会
• [学会発表] 折れ曲がり制約を含む配線問題のNP完全性 (2015)
  • 著者名/発表者名: 本江俊幸，高橋篤司
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 北九州国際会議場（福岡県）
  • 年月日: 2015-05-14
• [学会発表] Rip-up and Reroute based Routing Algorithm for Self-Aligned Double Patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: the 19th Workshop on Synthesis And System Integration of Mixed Information technologies (SASIMI 2015)
  • 発表場所: 長栄鳳凰酒店(台湾)
  • 年月日: 2015-03-16 – 2015-03-17
• [学会発表] A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm (2015)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 沖縄県青年会館(沖縄県)
  • 年月日: 2015-03-02 – 2015-03-04
• [学会発表] 側壁プロセス配線におけるカットパターン削減手法 (2015)
  • 著者名/発表者名: 高橋紀之，井原岳志，高橋篤司
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 沖縄県青年会館(沖縄県)
  • 年月日: 2015-03-02 – 2015-03-04
• [学会発表] Yield-aware mask assignment using positive semidefinite relaxation in LELECUT triple patterning (2015)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: SPIE (Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX)
  • 発表場所: サンノゼ会議センタ(米国)
  • 年月日: 2015-02-21 – 2015-02-25
• [学会発表] Fast Mask Assignment using Positive Semidefinite Relaxation in LELECUT Triple Patterning Lithography (2015)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: Asia and South Pacific Design Automation Conference 2015 (ASP-DAC 2015)
  • 発表場所: 幕張メッセ(千葉県)
  • 年月日: 2015-01-19 – 2015-01-22
• [学会発表] Positive Semidefinite Relaxation and Approximation Algorithm for Triple Patterning Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Tomomi Matsui, Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi
  • 学会等名: the 25th International Symposium on Algorithms and Computation (ISAAC 2014)
  • 発表場所: 全州伝統文化センター(韓国)
  • 年月日: 2014-12-15 – 2014-12-17
• [学会発表] Multi Patterning Techniques for Manufacturability Enhancement in Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Atsushi Takahashi, Ahmed Awad, Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Chikaaki Kodama, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: the 2014 International Conference on Integrated Circuits, Design, and Verification (ICDV 2014)
  • 発表場所: 工業技術大学(ベトナム)
  • 年月日: 2014-11-14 – 2014-11-15
  • 招待講演
• [学会発表] A Fast Process Variation and Pattern Fidelity Aware Mask Optimization Algorithm (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: IEEE/ACM 2014 International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD 2014)
  • 発表場所: ヒルトンサンノゼ(米国)
  • 年月日: 2014-11-02 – 2014-11-06
• [学会発表] A Process Variability Band Area Reduction Algorithm For Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: 電子情報通信学会 ソサイエティ大会
  • 発表場所: 徳島大学（徳島県）
  • 年月日: 2014-09-23 – 2014-09-26
• [学会発表] Mask Optimization With Minimal Number of Convolutions Using Intensity Difference Map (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: DAシンポジウム2014
  • 発表場所: 下呂温泉水明館(岐阜県)
  • 年月日: 2014-08-28 – 2014-08-29
• [学会発表] A New Intensity Based Edge Placement Error Optimization Algorithm for Optical Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: 第27回 回路とシステムワークショップ
  • 発表場所: 淡路夢舞台国際会議場（兵庫県）
  • 年月日: 2014-08-04 – 2014-08-05
• [学会発表] LELEダブルパターニングのための歩留まりを考慮した高速マスク割り当て手法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，横山陽子，児玉親亮，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 学会等名: 次世代リソグラフィワークショップNGL2014
  • 発表場所: 蔵前会館（東京都）
  • 年月日: 2014-07-17 – 2014-07-18
• [学会発表] Positive Semidefinite Relaxation and Approximation Algorithm for Triple Patterning Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: Tomomi Matsui, Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi
  • 学会等名: Design Automation Conference 2014 (DAC 2014)
  • 発表場所: モスコーンセンタ（米国）
  • 年月日: 2014-06-01 – 2014-06-05
• [学会発表] Density Balanced Layout Decomposition for Multiple Patterning Lithography by Positive Smidefinite Relaxation with Liner Objective Function (2014)
  • 著者名/発表者名: Tomomi Matsui, Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi
  • 学会等名: Design Automation Conference 2014 (DAC 2014)
  • 発表場所: モスコーンセンタ（米国）
  • 年月日: 2014-06-01 – 2014-06-05
• [学会発表] LELECUT Triple Patterning Lithography Layout Decomposition using Positive Semidefinite Relaxation (2014)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: Design Automation Conference 2014 (DAC 2014)
  • 発表場所: モスコーンセンタ（米国）
  • 年月日: 2014-06-01 – 2014-06-05
• [学会発表] Enhanced Two-color Grid Routing for Self-Aligned Double Patterning (2014)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama
  • 学会等名: Design Automation Conference 2014 (DAC 2014)
  • 発表場所: モスコーンセンタ（米国）
  • 年月日: 2014-06-01 – 2014-06-05
• [学会発表] 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 小平行秀，松井知己，横山陽子，児玉親亮，高橋篤司，野嶋茂樹，田中聡
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 北九州国際会議場（福岡県）
  • 年月日: 2014-05-28 – 2014-05-29
• [学会発表] Yield-aware decomposition for LELE double patterning (2014)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: SPIE (Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability VIII)
  • 発表場所: サンノゼ会議センタ(米国)
• [学会発表] Localization concept of re-decomposition area to fix hotspots for LELE process (2014)
  • 著者名/発表者名: Yoko Yokoyama, Keishi Sakanushi, Yukihide Kohira, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama, Satoshi Tanaka, Shigeki Nojima
  • 学会等名: SPIE (Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability VIII)
  • 発表場所: サンノゼ会議センタ(米国)
• [学会発表] ダブルパターニングにおけるリソグラフィECOのためのパターン局所修正法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 宮辺祐太郎，高橋篤司，松井知己，小平行秀，横山陽子
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 沖縄県青年会館(沖縄県)
• [学会発表] 側壁ダブルパターニングのための修正2色グリッド配線法 (2014)
  • 著者名/発表者名: 井原岳志，高橋篤司，児玉親亮
  • 学会等名: VLSI設計技術研究会
  • 発表場所: 沖縄県青年会館(沖縄県)
• [学会発表] A Study of Robust Stitch Design for Litho-etch-litho-etch Double Patterning (2013)
  • 著者名/発表者名: Yoko Takekawa, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Yukihide Kohira, Satoshi Tanaka, Keishi Sakanushi, Jiro Higuchi, Shigeki Nojima
  • 学会等名: Design for Manufacturability and Yield 2013 (DFM&Y2013)
  • 発表場所: オースチン会議センタ（米国)
• [学会発表] Minimum Cost Stitch Selection in LELE Double Patterning (2013)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Yoko Takekawa, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: Design for Manufacturability and Yield 2013 (DFM&Y2013)
  • 発表場所: オースチン会議センタ（米国)
• [学会発表] Overlap Area Maximization in Stitch Selection for LELE Double Patterning (2013)
  • 著者名/発表者名: Yukihide Kohira, Yoko Takekawa, Chikaaki Kodama, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka
  • 学会等名: 第26回 回路とシステムワークショップ
  • 発表場所: 淡路夢舞台国際会議場(兵庫県)