| 研究課題/領域番号 |
25282148
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生体医工学・生体材料学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
須丸 公雄 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 上級主任研究員 (40344436)
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| 研究分担者 |
高木 俊之 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 主任研究員 (10248065)
金森 敏幸 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 研究グループ長 (50356797)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
18,070千円 (直接経費: 13,900千円、間接経費: 4,170千円)
2015年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円)
2014年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円)
2013年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
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| キーワード | 光細胞操作 / 光酸発生ポリマー / 未分化維持培養 / 細胞操作 |
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| 研究成果の概要 |
培養細胞の切断・剥離・細分化操作等の自動化を目指して、新規光応答性培養基材を用いた細胞プロセシング技術を開発した。可視光応答性の光酸発生（PAG）ポリマーを新規に開発、これを含む細胞培養基材への近紫外～可視光の面的な照射によって、細胞単層を切断し、均一な大きさのセルクランプを作製できること、局所的に細胞接着を低下させ、所定の個所の細胞のみを回収できること、これらをヒトiPS細胞の継代プロセスに適用できることを確認した。さらにこのポリマーを用いて、水溶性ポリマーの架橋、および架橋ゲル層の基材からの剥離を光照射で制御することで、ハイドロゲルからなる半立体マイクロ構造体を形成する手法を開発した。
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