| 研究課題/領域番号 |
25861824
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
補綴・理工系歯学
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
丸森 亮太朗 東北大学, 歯学研究科(研究院), 大学院非常勤講師 (80534065)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2014年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2013年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | プラズマCVD / チタニア / 光触媒 / プラズマCVD法 |
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| 研究成果の概要 |
最先端成膜プロセス技術の一つ、マイクロ波プラズマCVD (Chemical Vapor Deposition)成膜技術により、白金加金表面へのチタニアコーティングを試みた。マイクロ波として0.8 kw、1.0 kw、1.2 kwにてそれぞれ成膜した基板において、ロックウェル試験を行った。その結果、SEMによる微細組織観察では、等方性の結晶組織が観察されたが、結晶構造が粗造であり組織的にはまだ脆弱であった。
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