| 研究課題/領域番号 |
26390062
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
藤本 義隆 東京工業大学, 理学院, 研究員 (70436244)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2016年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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| キーワード | グラフェン / 異種原子ドープ / ガス吸着 / ドーピング / 第一原理計算 / カーボン系ナノ物質 |
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| 研究成果の概要 |
異種原子をドープしたグラフェンへの不純物分子の吸着・反応性について調べ、電子状態の制御や新たな物性発現、またデバイス応用へ提案することを目的として研究を展開した。水素分子などの分子は、窒素ドープグラフェン上で解離吸着することから、ガスセンサーや水素貯蔵といったデバイス材料として有用であること、また、ホウ素ドープグラフェンでは窒素酸化物ガスが吸着することから、環境汚染型ガスセンサーとして有用であることが明らかになった。
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