| 研究課題/領域番号 |
26630007
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
機械材料・材料力学
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
澁谷 忠弘 横浜国立大学, リスク共生社会創造センター, 准教授 (10332644)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2015年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2014年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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| キーワード | 薄膜 / 微小欠陥 / ナノ材料強度 / 原子輸送 / ナノ応力場 / 欠陥 / 添加元素 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、まず純錫と銅を微量添加しためっきを対象とした。スプリングバック後の残留応力により導入された局所応力場によって発生する表面ナノ欠陥の挙動について、原子間力顕微鏡を用いて観察した。欠陥の発生に加えて消失も確認することができ、デジタル画像相関法によるひずみ解析から、ひずみ勾配が急峻な場所で欠陥の発生が生じていることが確認できた。また、画像の差分から欠陥の体積成長速度を定量的に評価することができた。
続いて、ルテニウムを添加した試料をマイクロ波加熱することで生成し、表見観察から一部の酸化表面から欠陥の成長を確認した。観察された欠陥は、一般に錫表面から生成する欠陥とは異なる挙動を示している。
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