| 研究概要 |
1.共振器・微粒子生成室の設計および製作
(1)共振器の設計製作について 実施計画においては,2段型共振器として高い共振度を得たと述べたが,ネットワークアナライザを用い,その特性を調べたところ,初段の共振器の役割は小さく,後段により共振度は左右される事がわかった.そこで1段型とし,パラメータを精密に調節することで共振度の高いものが得られた.このことで調整のパラメータが格段に減少しチューニング及びインピーダンス(プラズマ点火,非点火時)の解析が容易になった.例えば共振周波数における吸収が数db程度であったものが,60dbすることができる.これにより現在の容器の最高使用圧力3.5気圧でも,事前にパラメータを調節してやれば,容易に点火できる.
共振系としては高し共振度のものが得られ,チューニングするプロセスを確立することができた.
(2)微粒子生成室の設計製作 微粒子の引き出し回収また薄膜作製およびその改質などを行ったりするのに必要な容器を製作し,それにイオンポンプを取り付けた.容器としての性能は10^<-10>torr程度の真空度を確保することができ,所期以上の目的を達することができた.
2.微粒子の生成および成膜 2種類のガス混合しプラズマ室に導入し,微粒子が得られた。全圧,ガスの分圧比,流量,投入マイクロ波パワーにより粒径の制御ができる.この制御性,粒子の組成及び構造については引き続き調査を行う。
このような高圧下でのプラズマCVDプロセスの事例はなく,新しい材料創製法と新材料開発の可能性を含めより詳しく研究しなければならない.
|
