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2017 年度 研究成果報告書

シリカ膜のナノチューニングと超薄膜製膜プロセッシングの確立

研究課題

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研究課題/領域番号 15H02313
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 化工物性・移動操作・単位操作
研究機関広島大学

研究代表者

都留 稔了  広島大学, 工学研究科, 教授 (20201642)

研究分担者 郡司 天博  東京理科大学, 理工学部先端化学科, 教授 (20256663)
伊藤 賢志  国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 研究グループ長 (90371020)
連携研究者 金指 正言  広島大学, 大学院工学研究院, 准教授 (10467764)
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
キーワード膜分離 / シリカ / オルガノシリカ
研究成果の概要

膜構成分子の隙間(ネットワーク細孔)を分子篩の細孔としてナノチューニングし,極めて薄膜(膜厚50nm以下)製膜するMolecular-Net Sievingにより,高選択・高透過性を有する分離膜の製膜学理を研究目的とした。まず,POSS構造を有するアルコキシドの合成,蒸気吸着分光解析法及び陽電子消滅法によるMolecular-Net Sieving材料の特性評価を行った。さらに,sシリカ膜の製膜プロセッシングと特性評価では,ゾル調製条件の最適化による細孔径制御技術,各種の架橋基を有するアルコキシシランによる細孔径制御技術,pH-swing法について検討し,高選択透過性膜の開発が可能となった。

自由記述の分野

膜分離

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公開日: 2019-03-29  

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