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本研究では，Si前駆体にtriethoxysilane (TRIES)，vinyltrimethoxysilane (VTMS)を用いて，ゾル－ゲル法によりSi-O-Si結合を有するシリカネットワークを形成させ，熱架橋によりヒドロシリル化することでSiOC構造を形成し，気体分離膜への応用について検討した。ゾル調製時の前駆体比がSiOC膜のネットワークサイズおよび耐酸化性に及ぼす影響について評価した結果，前駆体比によりネットワークサイズの制御が可能で，従来のオルガノシリカ膜と比較して高い耐熱性，耐酸化性を有することが明らかになった。
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