高周波電場印加時の周辺プラズマの物理モデル研究のために、マルチアレイ型静電プローブ・高周波プローブを作成し、プラズマ計測を実施した。プラズマ計測において、計測用プローブはアンテナ励起の電力が強い場合、プローブのフィードスルー部に多数の絶縁破壊が生じ、大電力高周波電場計測の実施には、非接触型の計測手法が必要であり、高耐圧高周波計測用フィードスルー開発の必要性が高まった。 アンテナ周辺のプラズマモデルとして、アンテナ周辺部では冷たいプラズマモデルと計算モデルが定性的によく一致することが示されたが、容器内の機器の存在により密度勾配が発生し、それに伴う密度分布モデルを作成する必要があることが分かった。
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