本研究では、Ti表面と新生骨との良好な接着強度を得るため、アモルファス炭素膜を微細パターン化し、骨との親和性を有するTiと骨芽細胞との親和性を有するアモルファス炭素の微細テクスチャーを作製することで、高骨形成能・高骨接着強度を有する材料表面の創製を目指した。プラズマ化学気相成長 (CVD) 法を用いて、アモルファス炭素膜をTi基板上に成膜し、Ti/アモルファス炭素微細パターンを作製することができた。さらに、細胞接着性タンパク質であるフィブロネクチン水溶液に浸漬し、その吸着について調査した。真空紫外光照射により、アモルファス炭素膜へのフィブロネクチンの吸着量が増加することがわかった。
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