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非ウイルスベクターでは遺伝子導入効率だけではなく著しい細胞間差も解決すべき大きな課題である。本研究では、製剤の分散状態を制御することで細胞間差の少ない非ウイルスベクターを開発することを目的とした。リポプレックスのPEG修飾に脱離可能なものを用いた上で、新たなPEG修飾タイミングとして複合体形成時にPEG修飾が施されるSyn-insertion法を考案した。この方法によれば、PEG修飾により製剤の分散状態を制御しつつ、肝臓における遺伝子発現の低下を抑えることが可能であった。さらにこの方法に用いる物質を探索し、分散状態を制御しつつ遺伝子発現を高める物質を見出すことができた。
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