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ナノスケールに集光した硬X線を用いたX線磁気円二色性（XMCD）測定により，Co/Pt積層膜およびCoCrPt-SiO2グラニュラー薄膜のGHz帯の高周波磁場・電流による磁化の応答について調べた．その結果，GHz帯の励起においても界面および合金中で分極したPtの磁気モーメントはCoのそれと結合してふるまっており，Pt原子のXMCDが試料全体の磁化状態を計測するプローブとして利用できることが分かった．また，グラニュラー薄膜の磁化の空間分布の計測から，マイクロ波アシスト磁化反転の際のクラスターサイズは励起周波数に大きく依存し，周波数の増大に伴ってクラスターが小さくなることが明らかになった．
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