光学近接効果を考慮した歩留まり最適レイアウト生成

2008 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 18560327
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 電子デバイス・電子機器
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 池田 誠 東京大学, 大規模集積システム設計教育研究センター, 准教授 (00282682)
• 研究分担者: 佐々木 昌浩 東京大学, 大規模集積システム設計教育研究センター, 助教 (50339701)
• 研究期間 (年度): 2006 – 2008
• キーワード: 電子デバイス / 電子機器 / マスクレイアウト設計

研究概要

集積回路の製造において用いられる微細なパターンの光転写において不可避となっている光学近接効果補正に対して、本研究では、設計パターンと製造されるパターンから逆問題を解くことにより補正を実施する手法の検討、パターン転写による製造不良を削減可能であることを示した。さらに、転写におけるばらつきがディジタル設計向けのセルにおける遅延、リークに与える影響の検討を行い、光学近接効果を考慮した場合のセルレイアウトの最適化によりセルのリーク電力低減に効果的であることを示した。

研究成果

• [雑誌論文] A Temperature Sensor With an Inaccuracy of-1/+0.8℃ Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits (2008)
  • 著者名/発表者名: M. Sasaki, M. Ikeda and K. Aasada
  • 雑誌名: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing Vol.21 ページ: 201-208
• [雑誌論文] Timing-Aware Cell Layout De-Compactionfor Yield Optimization by Critical Area Minimization (2007)
  • 著者名/発表者名: T. Iizuka, M. Ikeda and K. Asada
  • 雑誌名: IEEE Transactions on Very Large Scale Integration(VLSI)Systems Vol.15, No.6 ページ: 716-720
• [学会発表] Circuit Design using Stripe-Shaped TFTson Glass (2009)
  • 著者名/発表者名: K. Ikai, J. Kim, M. Ikeda, and K. Asada
  • 学会等名: IEEE Asia and South Pacific Design Automation Conference
  • 発表場所: Yokohama
  • 年月日: 2009-01-20
• [学会発表] Variation Tolerant Transceiver Design for System-on-Glass (2008)
  • 著者名/発表者名: J.Kim, K.Ikai, T.Nakura, M.Ikeda, K.Asada,
  • 学会等名: IEEE 34th European Solid-State Circuits Conference(ESSCIRC)Fringe
  • 発表場所: Edinburgh,UK
  • 年月日: 2008-09-15
• [学会発表] Delay Variation Measurements on DCVSL Using Logic Tester (2008)
  • 著者名/発表者名: M. Ikeda
  • 学会等名: University of Tokyo-UC Santa Barbara Joint Workshop
  • 発表場所: Santa Barbara, USA
  • 年月日: 2008-09-08
• [学会発表] Process Variation Aware Comprehensive Layout Synthesis for YieldEnhancement in Nano-Meter CMOS (2007)
  • 著者名/発表者名: K. Kurihara, T. Iizuka, M. Ikeda and K. Asada
  • 学会等名: IEEE International Conference on Electronics, Circuits and Systems(ICECS)
  • 発表場所: Marrakech, Morocco
  • 年月日: 2007-12-14
• [学会発表] Process Variation Aware Comprehensive Layout Synthesis for Yield Enhancement in Nano-Meter CMOS (2007)
  • 著者名/発表者名: M. Ikeda, K. Ishi, T. Sokabe and K. Asada
  • 学会等名: IEEE International Conference on Electronics, Circuits and Systems(ICECS)
  • 発表場所: Marrakech, Morocco
  • 年月日: 2007-12-12
• [学会発表] 40 Frames/sec 16x16 Temperature Probe Array using 90nm 1V CMOS for On line Thermal Monitoring on VLSI Chip (2007)
  • 著者名/発表者名: M. Sasaki, T. Inoue, M. Ikeda and K.Asada
  • 学会等名: IEEE Asian Solid-State Circuits Conference(A-SSCC)
  • 発表場所: Jeju, Korea
  • 年月日: 2007-11-14
• [学会発表] Analysis of Noise Margins Due to Device Parameter Variations in Sub-100nm CMOS Technology (2007)
  • 著者名/発表者名: Z. Liang, M. Ikeda and K. Asada
  • 学会等名: IEEE Workshop on Design and Diagnostics of Electronic Circuits and Systems(DDECS)
  • 発表場所: Krakow,Poland
  • 年月日: 2007-04-11