研究課題
本研究では、(1)ヒト細胞においてDNA二重鎖切断後に、生じるR-loop構造の調節メカニズム、(2)R-loop構造の形成メカニズム、(3)R-loop構造を認識し、適切に処理するための分子メカニズム、(4)転写複合体およびR-loop構造がゲノム安定性に与える影響、について着目して研究を実施する。今年度も、前年度に引き続き2光子共焦点レーザー顕微鏡を用いて、DNA二重鎖切断修復とR-loop構造の関係について検討した。今年度は特に、レーザー照射直後にDSB部位に集積する因子を同定するスクリーニング系の開発を行った。またレーザー照射細胞の免疫染色によってさまざまな因子の集積を評価するため、レーザー照射免疫染色に使用できる抗体、染色条件の検討を行った。また細胞周期のG2期において、Rad52などをノックダウンすることで転写共役型相同組換え修復を阻害すると、ゲノム異常の発生が顕著に増加することを前年度までに示したが、このことがS期、特にカンプトテシンやヒドロキシウレアなどを用いて複製を阻害をした際にも起こるかどうかについて検討したいと考えた。そのために、カンプトテシン処理後の染色体転座を解析する系を開発し、条件検討を行った。来年度以降は、これらの系の確立を通して、転写共役型DNA二重鎖切断修復によるゲノム異常抑制の分子メカニズムの詳細について解析し、またその概念がより広く適用できるかどうかについて検討を進める予定である。
2: おおむね順調に進展している
それぞれの系の条件検討が順調に進んだため。
レーザー照射直後にDSB部位に集積する因子を同定するスクリーニング系や、レーザー照射免疫染色系を用いて、R-loop構造の調節に関与する新たな因子を同定する。さらに、カンプトテシン処理後の染色体転座を解析する系により、転写共役型DNA二重鎖切断修復の阻害によるゲノム異常発生を解析する。
予定していた旅費を計画よりも節約できたため、その差額を次年度に消耗品の購入のために使用する予定である。
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すべて 国際共同研究 (2件) 雑誌論文 (1件) (うち国際共著 1件、 査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (1件) (うち招待講演 1件)
Oncology Reports
巻: 42 ページ: 2293-2302
10.3892/or.2019.7341