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可視光照射下、シリルエノールエーテルの一電子酸化によって生じるラジカルカチオンが非常に強い酸として振る舞うことを発見し、シリルエノールエーテルのアリル位-Hアルキル化反応を開発した。本反応は、シリルエノールエーテルのケイ素上の置換基にはほとんど依存せず、ラジカル受容体であるオレフィンも含めて広範な基質が適用可能であり、複雑な天然物誘導体の位置選択的な官能基化にも応用できる。また、基質適用範囲を実験的に検証すると同時に、計算化学的手法による基質と収率の相関解明にも取り組み、発生するアリルラジカルのアリル位のスピン密度の大きさが付加段階の活性化エネルギーに影響することを突き止めた。
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