高エネルギーイオンビームの直描式微細加工による3Dナノ構造の創製

2010 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 19206105
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 原子力学
• 研究機関: 独立行政法人日本原子力研究開発機構
• 研究代表者: 神谷 富裕 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 課長 (70370385)
• 研究分担者: 西川 宏之 芝浦工業大学, 工学部, 教授 (40247226) ; 関 修平 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30273709) ; 杉本 雅樹 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (90354943) ; 石井 保行 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (00343905) ; 佐藤 隆博 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (10370404) ; 大久保 猛 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究職 (40446456) ; 芳賀 潤二 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 出向職員 (00414566)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2010
• キーワード: ナノデバイス / マイクロマシン / マイクロビーム / 3Dナノ構造創製 / マスクレ描画 / ナノ細線

研究概要

ナノデバイスあるいはマイクロマシン創製の基盤技術として、MeV以上の高エネルギーイオンマイクロビームの特長を活かした3Dナノ構造創製技術を開発した。研究では、研究代表者自らが開発した各種のマイクロビーム装置を駆使し、その多様性、高空間分解能、高密度エネルギー付与、および長飛程の特長を活かし、それらを組み合わせてマスクレス描画する技術を開発し、ナノ細線を含む3次元微細構造の創製に見通しを得た。

研究成果

• [雑誌論文] Fabrication of nanowires by varying energy microbeam lithography using heavy ions at the TIARA (2009)
  • 著者名/発表者名: T.Kamiya, K.Takano, Y.Ishii, T.Satoh, M.Oikawa, T.Ohkubo, J.Haga, H.Nishikawa, Y.Furuta, N.Uchiya, S.Seki, M.Sugimoto
  • 雑誌名: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-Beam Interactions with Materials and Atoms 267 ページ: 2317-2320
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microbeam complex at TIARA : Technologies to meet a wide range of applications
  • 著者名/発表者名: T.Kamiya, K.Takano, T.Satoh, Y.Ishii, H.Nishikawa, S.Seki, M.Sugimoto, S.Okumura, M.Fukuda
  • 雑誌名: Nucl.Instr.Meth. B(in press)
  • 査読あり
• [学会発表] Local nano-processing of epoxy resin systems by single ion hits with writing (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Takano
  • 学会等名: 12th International Conference on Nuclear Microprobe Technology and Applications (ICNMTA2010)
  • 発表場所: ドイツ、ライプチッヒ
  • 年月日: 2010-07-29
• [学会発表] Curing Reaction of SU-8 Negative-type Photoresist by MeV Ion Beam Lithography (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Takano
  • 学会等名: 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology Conference (ICPST-27)
  • 発表場所: 千葉
  • 年月日: 2010-06-24
• [備考] ホームページ等