研究課題
基盤研究(C)
新たなナノ加工技術になると期待される原子リソグラフィー技術において、計算機ホログラムと近接場で発生させた光マスクで原子の微細構造物を作製する基盤技術を開発した。具体的には、原子源となる極低温原子の発生効率を100倍程度高める技術の開発に成功するとともに、光マスク生成用に紫色半導体レーザーをベースした光源を開発した。さらに原子描画性能に大きな影響を及ぼす光マスクの安定性について、2時間にわたり周波数にして0.4MHz以下の変動以内で高安定に発生する技術を開発した。
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Proceedings of the International Conference on Physics Education 2006, Journal of the Physics Education Society of Japan Supplement
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