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均一性に優れた先鋭なμmからnmサイズの微細構造作製が容易なマイクロエレクトロメカニカルシステム技術の一種、独自の転写モールド法を用いることで、電子放出面積や電子放出点などが可変で、エックス線ビームフォーカスが決める、極微小電子放射源を用い超高精細・高分解能のエックス線発生源として、エミッタ基底部長さが1570nmから41nm、エミッタ先端極率が2.8nmの先鋭な極微小であり、1.3%の電子放出電流変動率を持つ高安定性先鋭な極微小電子放出源を作製し、エックス線出力変動率が１%程度の高安定性及び焦点サイズが数十μmレベルの高分解能エックス線発生源用ナノ微細構造電界放出アレイの試作が成功した。
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