| 研究課題/領域番号 |
19K10325
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分57060:外科系歯学関連
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| 研究機関 | 愛知学院大学 |
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研究代表者 |
井村 英人 愛知学院大学, 歯学部, 講師 (10513187)
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| 研究分担者 |
平田 あずみ 大阪医科薬科大学, 医学部, 准教授 (40263587)
鈴木 聡 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (30468996)
南 克浩 愛知学院大学, 歯学部, 講師 (70346162)
吉田 磨弥 (大野磨弥) 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (70760718)
森 明弘 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (30804413)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | 口蓋裂 / 発生機序 / TCDD / 離開 / 癒合 / 基底膜 |
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| 研究成果の概要 |
口蓋裂を100％発症する濃度のTCDDに暴露された口蓋癒合期のマウス胎仔では、複数の個体において口蓋癒合途中で離開に転じている場合があることが確認された。TCDD投与マウスにおいて口蓋癒合後の離開による口蓋裂の発症機序として、がんの転移に類似した機序がある可能性が考えられた。また、上皮組織の異常な細胞増殖や、細胞間接着の低下および間葉系細胞の増殖阻害が口蓋の離開を生じる要因の一つである可能性が示唆された。
口蓋裂を発症する過程において一度癒合した口蓋が離開に転じる機序を解明することにより、離開を阻止する要素が発見される可能性が考えられ、新たな口蓋裂発症の予防法の確立につながることが期待される。
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| 自由記述の分野 |
口唇口蓋裂
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
これまで口蓋裂の発生機序に関して、口蓋形成時に左右の口蓋突起が癒合しないことによって口蓋裂を発症するという説が一般的であった。したがって、口蓋が癒合しない原因について様々な研究が行われてきたが、明確な回答は出ていない。
本研究は、口蓋裂を発症する過程において一度癒合した口蓋が離開に転じる機序があることを明らかとしたことは、学術的意義がある。また、離開を阻止する要素が発見される可能性が考えられ、新たな口蓋裂発症の予防法の確立につながることが期待される点で社会的意義がある。
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