低消費エネルギー駆動の磁気メモリの実現のため、垂直磁化薄膜の磁化を低電流で制御するための研究が世界中で行われている。昨今研究されているスピンホール効果を利用した手法は、垂直磁化の低電流制御には適していなかった。近年、磁性体のスピン軌道相互作用を利用したスピン流生成はスピンの方向を制御できることが報告され、垂直磁化の低電流制御を実現するための一つの手法となり得ることが示された。しかし初等的な強磁性体におけるスピン生成効率や垂直磁化の磁気緩和制御の報告は皆無であった。本研究では初等的強磁性体鉄コバルト合金のスピン流生成効率を明らかにし、垂直磁化の磁気緩和制御を観測するための光学的手法の開拓をした。
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