研究課題
基盤研究(B)
炭素負イオンを高分子材料にパターン注入することにより、ラット骨髄由来の間葉系幹細胞を注入パターンに沿った自発的な配列接着を形成した。また、パターン配列を保持したままで神経細胞や骨芽細胞に分化することに成功した。パターン幅を狭くすることにより、細胞体形状の伸長方法や細胞核の長軸方向を配列することができた。また、ポリ乳酸に炭素や酸素負イオンを注入することにより、細胞が接着した細胞シートや細胞ストリングを形成した。更に、ガラス上でもプラズマ処理と負イオンパターン注入処理により、幹細胞の配列接着を実現した。
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Surface and Coatings Technology to be published
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B Vol.B268
ページ: 3231-3234
Ion Implantation 2010(Eds : J.Matsuo, M.Kase, T.Aoki, T.Seki, American Institute of Physics, 2010) Vol.IIT2010
ページ: 302-305
Surface and Coatings Technology Vol.203
ページ: 2351-2356
ページ: 2562-2565
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Vol.B266
ページ: 3067-3070