| 研究課題/領域番号 |
20K05293
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分28050:ナノマイクロシステム関連
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| 研究機関 | 東京電機大学 |
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研究代表者 |
堀内 敏行 東京電機大学, 工学部, 研究員 (00297582)
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| 研究分担者 |
小林 宏史 東京電機大学, 工学部, 教授 (80838855)
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| 研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2023-03-31
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| キーワード | 立体面投影露光 / 回転放物面ミラー / 曲面リソグラフィ / 大パターン / ヘルスモニタ |
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| 研究成果の概要 |
任意形状の緩い曲面上に線幅50～500ミクロンの大パターンを投影露光リソグラフィにより形成する立体面投影露光技術を提案し、投影露光装置を自作して実際に可能であることを示した。回転放物面ミラーを対向させて上下に重ね、両ミラーの中央部に開口を設け、下ミラーの開口内に置いた透明プラスチックスプーンを用いて製作した曲面レチクルを、斜め下の一方向からからコリメートLED光源により照明した。これらの照明の工夫により、曲面レチクルの立体像を上ミラー開口内に置いたレチクルと同形の被露光物に塗布したレジスト上に鮮明に作り、パターンを転写した。曲面レチクルから曲面被露光物への一括投影露光が可能なことを実証した。
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| 自由記述の分野 |
光リソグラフィ
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
リソグラフィは通常、平面状のレチクルやマスクを原図として、半導体ウエハなどの平坦な被露光物上に微細パターンを形成する技術として用いられている。主に高開口数の投影露光や密着露光が使われており、原図基板および被露光物表面の平面度が良いことが必要とされ、少しでも凹凸があったり、傾いたり、曲がったりしているとパターンを形成できない。そのため、曲面レチクルのパターンを曲面に投影露光するという発想はこれまで全く無かった。本研究は、その新しい発想を実現するための方法を提案し、実際に可能であることを実証した。リソグラフィに新たな展開先、応用先を切り開いたという学術的意義、社会的意義は非常に大きい。
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